[发明专利]一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法在审

专利信息
申请号: 201611043887.8 申请日: 2016-11-24
公开(公告)号: CN106656092A 公开(公告)日: 2017-05-10
发明(设计)人: 杜寰;任建伟;丛密芳;李科;黄启俊;高潮 申请(专利权)人: 扬州江新电子有限公司
主分类号: H03H7/38 分类号: H03H7/38
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司32102 代理人: 陈栋智
地址: 225000 江苏省*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 提高 大功率 ldmos 器件 稳定性 匹配 设计 方法
【权利要求书】:

1.一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,在传统LC组成的“T”型网络结构的管芯版图上增加多晶电阻R。

2.根据权利要求1所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,所述多晶电阻R串接在管芯与靠近管芯的电感L之间,即从管芯向外的第一结构为R-L-C-L。

3.根据权利要求2所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,所述多晶电阻R上还并联有电容C,即从管芯向外的第一结构为R-C-L-C-L。

4.根据权利要求3所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,如果提升的阻抗值较小,可在第一结构的基础上继续增加LC结构,即R-C-L-C-L-C-L。

5.根据权利要求2所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,如果提升的阻抗值较小,可在第一结构的基础上继续增加LC结构,即R-L-C-L-C-L。

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