[发明专利]一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法在审
申请号: | 201611043887.8 | 申请日: | 2016-11-24 |
公开(公告)号: | CN106656092A | 公开(公告)日: | 2017-05-10 |
发明(设计)人: | 杜寰;任建伟;丛密芳;李科;黄启俊;高潮 | 申请(专利权)人: | 扬州江新电子有限公司 |
主分类号: | H03H7/38 | 分类号: | H03H7/38 |
代理公司: | 南京苏科专利代理有限责任公司32102 | 代理人: | 陈栋智 |
地址: | 225000 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 提高 大功率 ldmos 器件 稳定性 匹配 设计 方法 | ||
1.一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,在传统LC组成的“T”型网络结构的管芯版图上增加多晶电阻R。
2.根据权利要求1所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,所述多晶电阻R串接在管芯与靠近管芯的电感L之间,即从管芯向外的第一结构为R-L-C-L。
3.根据权利要求2所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,所述多晶电阻R上还并联有电容C,即从管芯向外的第一结构为R-C-L-C-L。
4.根据权利要求3所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,如果提升的阻抗值较小,可在第一结构的基础上继续增加LC结构,即R-C-L-C-L-C-L。
5.根据权利要求2所述的一种提高大功率LDMOS器件稳定性的内匹配设计方法,其特征在于,如果提升的阻抗值较小,可在第一结构的基础上继续增加LC结构,即R-L-C-L-C-L。
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