[发明专利]硅片插片装置、硅片清洗设备以及硅片清洗方法

权利要求书

1.硅片插片装置，包括相连通的上料单元(1)和插片单元(2)，所述上料单元(1)将硅片逐片传输至所述插片单元(3)，其特征在于，所述硅片插片装置还包括位于所述上料单元(1)与所述插片单元(3)之间的清洁单元(2)，所述清洁单元(2)对进入所述插片单元(3)前的硅片进行清洁处理。

2.如权利要求1所述的硅片插片装置，其特征在于，所述清洁单元(2)包括至少一个清洁部，每个所述清洁部均包括相对设置的清洁传送结构(23)及刷洗结构，所述清洁传送结构(23)接收并传输来自所述上料单元(1)的硅片至所述插片单元(3)，所述刷洗结构对所述硅片表面进行逐片刷洗处理。

3.如权利要求2所述的硅片插片装置，其特征在于，所述刷洗结构包括多个间隔设置的毛刷辊(240)，所述毛刷辊(240)包括转动辊(241)及环绕所述转动辊(241)设置的刷头(242)。

4.如权利要求3所述的硅片插片装置，其特征在于，所述清洁部还包括与所述清洁传送结构(23)相对设置的喷液结构，所述喷液结构包括至少一个喷液管(250)，所述喷液管(250)与所述毛刷辊(240)交替设置。

5.如权利要求4所述的硅片插片装置，其特征在于，所述喷液管(250)与清洁传送结构(23)相对的一侧设有喷液孔(251)，所述喷液管(250)可绕其自身的轴线转动。

6.如权利要求3所述的硅片插片装置，其特征在于，所述清洁部还包括多个挤压辊(26)，每个所述挤压辊(26)均与所述毛刷辊(25)相邻设置。

7.如权利要求2-6中任一项所述的硅片插片装置，其特征在于，所述清洁单元包括至少两个依次设置的清洁部，相邻的两个清洁部中，一个清洁部用于清洁硅片的第一表面，另一个清洁部用于清洁硅片与第一表面相对的第二表面。

8.硅片清洗设备，其特征在于，包括硅片清洗装置(101)及如权利要求1-7任一项所述的硅片插片装置，所述硅片清洗装置(101)为槽式清洗装置。

9.如权利要求8所述的硅片清洗设备，其特征在于，所述硅片清洗装置(101)包括酸洗槽和/或碱洗槽以及纯水槽。

10.硅片清洗方法，其特征在于，利用如权利要求8或9所述的硅片清洗设备对硅片进行清洗，包括步骤：

利用所述上料单元(1)逐片传输硅片；

利用所述清洁单元(2)对所述硅片进行清洁处理；

将所述清洁处理后的硅片传输至所述插片单元(3)进行插片；

以及利用所述硅片清洗装置(101)清洗插片处理后的硅片。