[发明专利]一种锅具遮蔽冷喷涂的方法及其制备的锅具和烹饪器具有效

专利信息
申请号: 201611049461.3 申请日: 2016-11-22
公开(公告)号: CN108078363B 公开(公告)日: 2021-06-15
发明(设计)人: 李康;曹达华;李兴航;杨玲;李洪伟;屈雪平 申请(专利权)人: 佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司
主分类号: A47J27/00 分类号: A47J27/00;A47J36/04;B05D1/32
代理公司: 北京轻创知识产权代理有限公司 11212 代理人: 何佩英
地址: 528311 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 遮蔽 喷涂 方法 及其 制备 烹饪 器具
【权利要求书】:

1.一种锅具遮蔽冷喷涂的方法,其特征在于,包括:

利用遮蔽工装遮挡于锅具待遮蔽区域,通过工作气体将导磁粉末冷喷涂在锅具的待喷涂区域,所述导磁粉末在锅具待喷涂区域形成磁性涂层,所述冷喷涂的工艺参数为:喷射时工作气体加热至400-1100℃;所述导磁粉末为Fe、Ni、Co、Fe-Si合金、430不锈钢中的一种或任意几种的混合。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述遮蔽工装包括遮蔽结构体和与其连接的机械手,其中,所述遮蔽结构体采用陶瓷、刚玉、碳化硅、人造金刚石、立方氮化硼或硬质合金为材料制得,所述遮蔽结构体的形状与锅具待遮蔽区域结构的形状匹配。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述遮蔽结构体采用焊接、铆接或螺纹连接固定于所述机械手上,冷喷涂锅具时,以机械手为传动机构,在设定的移动程序操控下,机械手将遮蔽结构体移动至待遮蔽区域,并使遮蔽结构体紧贴待遮蔽区域。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述冷喷涂的工艺参数为:喷射压力为1-4Mpa。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述冷喷涂的工艺参数为:工作气体速度为1-2m3/min。

6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述冷喷涂的工艺参数为:导磁粉末输送速度为5-15kg/h。

7.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述冷喷涂的工艺参数为:喷射距离为10-50mm。

8.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述冷喷涂的工艺参数为:消耗功率为15-55kW。

9.根据权利要求1至8任一项所述的方法,其特征在于,所述工作气体为氩气、氦气、氮气中的一种或任意几种的混合。

10.根据权利要求1至8任一项所述的方法,其特征在于,所述导磁粉末的粒径为1-50μm。

11.根据权利要求1至8任一项所述的方法,其特征在于,所述导磁粉末的纯度为95%-99.99%。

12.根据权利要求1至8任一项所述的方法,其特征在于,所述磁性涂层的厚度为0.1-1mm。

13.根据权利要求1至8任一项所述的方法,其特征在于,所述磁性涂层位于锅具的内表面或外表面。

14.一种锅具,其特征在于,所述锅具根据权利要求1至13任一项所述的方法制成,所述待遮蔽区域位于所述锅具的底部中心,以使通过冷喷涂的所述磁性涂层呈环形。

15.一种烹饪器具,其特征在于,所述烹饪器具包括权利要求14所述的锅具、电磁感应线圈和温控器,所述电磁感应线圈与所述磁性涂层相对设置,所述温控器位于所述待遮蔽区域内。

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