[发明专利]主动对焦机构、光路系统及激光直写光刻机在审

专利信息
申请号: 201611051328.1 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN106773538A 公开(公告)日: 2017-05-31
发明(设计)人: 莫阳 申请(专利权)人: 天津津芯微电子科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙)11371 代理人: 马维丽
地址: 300457 天津市滨海新区天津经济技术开发区黄海路1*** 国省代码: 天津;12
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摘要:
搜索关键词: 主动 对焦 机构 系统 激光 光刻
【权利要求书】:

1.一种主动对焦机构,用于具有自动齐焦功能的激光直写光刻机,其特征在于,包括分光模块、自动对焦模块、Z轴模块、XY轴载物平台,其中,

所述分光模块对所述自动对焦模块发出的光束进行分光,使所述光束通过所述Z轴模块投射至所述XY轴载物平台;

所述XY轴载物平台用于放置需要进行曝光的曝光基底;

所述XY轴载物平台包括位于水平方向的二维自由度,能够实现XY轴联动;

所述Z轴模块具有与水平方向垂直的一维自由度,能够在Z轴方向上自由移动,实现对焦调节。

2.根据权利要求1所述的主动对焦机构,其特征在于,还包括第一成像模块,其中,

所述分光模块位于所述第一成像模块上,所述第一成像模块提供物象关系。

3.根据权利要求1所述的主动对焦机构,其特征在于,所述自动对焦模块包括自动对焦光源。

4.根据权利要求1所述的主动对焦机构,其特征在于,所述分光模块包括分光棱镜。

5.根据权利要求4所述的主动对焦机构,其特征在于,所述分光棱镜与水平面呈45度夹角放置。

6.一种光路系统,用于具有自动齐焦功能的激光直写光刻机,其特征在于,包括曝光光源、光学照明系统、空间光调制器以及如权利要求1-5任一项所述的主动对焦机构,其中,

所述曝光光源发出的光束经所述光学照明系统进行整形,整形后的光束经所述空间光调制器形成具有图形信息的光束;

具有图形信息的光束投射至所述主动对焦机构。

7.根据权利要求6所述的光路系统,其特征在于,还包括第二成像模块,其中,

所述第二成像模块位于所述空间光调制器与所述主动对焦机构之间。

8.根据权利要求6所述的光路系统,其特征在于,所述空间光调制器为数字微镜。

9.根据权利要求6所述的光路系统,其特征在于,所述曝光光源为非脉冲光源。

10.一种激光直写光刻机,其特征在于,包括多个如权利要求6-9任一项所述的光路系统。

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