[发明专利]发光陶瓷结构及其制备方法、相关发光装置和投影装置有效
申请号: | 201611053227.8 | 申请日: | 2016-11-25 |
公开(公告)号: | CN108105604B | 公开(公告)日: | 2020-05-29 |
发明(设计)人: | 田梓峰;胡飞;许颜正 | 申请(专利权)人: | 深圳光峰科技股份有限公司 |
主分类号: | F21K9/68 | 分类号: | F21K9/68;F21V7/24;F21V29/85;C04B41/89;C04B35/581;F21Y115/10 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518000 广东省深圳市南山区粤*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 陶瓷 结构 及其 制备 方法 相关 装置 投影 | ||
1.一种发光陶瓷结构,其特征在于,包括依次层叠结合在一起的发光陶瓷层、多孔陶瓷反射层和陶瓷散热基板;其中所述多孔陶瓷反射层为掺杂氧化锌和/或氧化镁的氧化铝多孔陶瓷,掺杂的氧化锌和/或氧化镁用于与所述陶瓷散热基板结合;并且掺杂的氧化锌的至少部分以ZnxAlyO的形式存在,以及掺杂的氧化镁的至少部分以MgxAlyO的形式存在;所述陶瓷散热基板为氮化铝陶瓷基板;所述多孔陶瓷反射层中掺杂的氧化物比例是总质量的1%~10%。
2.根据权利要求1所述的发光陶瓷结构,其特征在于,所述ZnxAlyO具体是ZnAl2O4,MgxAlyO具体是MgAl2O4。
3.根据权利要求1所述的发光陶瓷结构,其特征在于,所述多孔陶瓷反射层还掺杂氧化锆、氧化钛和氧化钇中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的发光陶瓷结构,其特征在于,所述发光陶瓷层是Ce掺杂YAG陶瓷。
5.根据权利要求1-4任一项所述的发光陶瓷结构,其特征在于,所述发光陶瓷层的厚度为0.05~1mm,所述多孔陶瓷反射层的厚度为0.1~2mm,所述陶瓷散热基板的厚度为0.5~5mm。
6.根据权利要求1所述的发光陶瓷结构,其特征在于,所述发光陶瓷层表面镀有增透膜,或所述发光陶瓷层表面有粗糙微结构。
7.一种如权利要求1-6任一项所述的发光陶瓷结构的制备方法,其特征在于,所述方法包括:将分别用于形成多孔陶瓷反射层和发光陶瓷层的流延浆料先后浇注在陶瓷散热基板上,然后依次经过层压和烧结形成所述发光陶瓷结构。
8.一种发光装置,其特征在于,包括权利要求1-6任一项所述的发光陶瓷结构,还包括用于产生激发光的激发光源,所述发光陶瓷结构位于所述激发光的光路上。
9.一种投影系统,其特征在于,包括权利要求8中所述的发光装置,还包括投影成像装置。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳光峰科技股份有限公司,未经深圳光峰科技股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611053227.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。