[发明专利]一种硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法

权利要求书

1.一种硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，包括：

对上涂辊及下涂辊进行标定，将所述上涂辊及所述下涂辊的水平度控制在0.01mm/m以内；

提高干燥炉烧嘴的输出功率；

控制钢卷卷径计算值与钢卷的实时直径的偏差控制在1/1000以内，包括：

引入钢卷卷径补偿模型

所述X为卷径计算值，所述Y为补偿输出值；所述X_N及所述X_N-1为卷径设定值，所述N取值为正整数；所述Y_N及所述Y_N-1为补偿设定值，所述N取值为正整数；

获得钢卷的实时直径D_act；

调节补偿输出值Y，使卷径计算值X与钢卷的实时直径D_act的偏差控制在1/1000以内。

2.如权利要求1所述的硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述对上涂辊及下涂辊进行标定，将所述上涂辊及所述下涂辊的水平度控制在0.01mm/m以内，包括：

(1)测量所述上涂辊的水平度，拧开所述上涂辊两侧的调节丝杠并调整使所述上涂辊的精度控制在0.01mm/m以内，然后将所述调整丝杠紧固；

(2)测量所述下涂辊的水平度，分别点动下涂辊两侧的电机带动丝杠动作，调节所述下涂辊两侧的水平度，使所述下涂辊的精度控制在0.01mm/m以内，并标定下涂辊两侧位置编码器零位；

(3)使涂机进入压力控制模式，所述涂机给定不同的压力，观察所述下涂辊两侧编码器位置的变化量；

若所述编码器位置差值小于或等于1mm，则涂辊水平度标定完毕；若两侧编码器位置差值在大于1mm，则重复所述步骤(1)、步骤(2)及所述步骤(3)，直至所述编码器位置差值小于或等于1mm。

3.如权利要求2所述的硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述提高干燥炉烧嘴的输出功率，包括：

提高干燥炉烧嘴的输出功率18％-25％。

4.如权利要求3所述的硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，所述提高干燥炉烧嘴的输出功率，包括：

提高干燥炉烧嘴的输出功率20％。

5.如权利要求2-4任一项所述的硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，利用水平仪测量所述上涂辊水平度。

6.如权利要求2-4任一项所述的硅钢氧化镁涂层卷取塔形的控制方法，其特征在于，利用水平仪测量所述下涂辊水平度。