[发明专利]具有电磁屏蔽及散热特性的半导体组件及制作方法有效

专利信息
申请号: 201611058740.6 申请日: 2016-11-25
公开(公告)号: CN108109974B 公开(公告)日: 2019-09-24
发明(设计)人: 林文强;王家忠 申请(专利权)人: 钰桥半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/522;H01L23/28
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 中国台湾台北*** 国省代码: 中国台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 路由电路 半导体芯片 散热座 散热 半导体组件 电磁屏蔽 屏蔽盖 增益型 侧向环绕 电性耦接 散热特性 相反两侧 阶段式 密封材 导通 热性 凸块 凸柱 制作
【权利要求书】:

1.一种具有电磁屏蔽及散热特性的半导体组件,其包括:

一封埋装置,其包含一第一半导体芯片、一密封材及一第一路由电路,该第一路由电路设置于该密封材的一第一表面,其中该第一半导体芯片嵌埋于该密封材中,并电性耦接至该第一路由电路;

一散热增益型装置,其包括一散热座及一第二半导体芯片,该散热座具有一屏蔽盖、凸柱及一第二路由电路,且该第二路由电路设置于该屏蔽盖的一表面上,其中(i)该第二路由电路具有一贯穿开口,且该第二半导体芯片设置于该贯穿开口中,并贴附至该屏蔽盖,且(ii)所述凸柱自该屏蔽盖的该表面凸出,并被该第二路由电路侧向环绕;以及

该散热增益型装置叠置于该封埋装置上,且该第二半导体芯片借由一系列第一凸块,电性耦接至该第一路由电路,而该第二路由电路借由一系列第二凸块,电性耦接至该第一路由电路。

2.如权利要求1所述的半导体组件,其中,该散热座的所述凸柱电性连接至该第二路由电路。

3.如权利要求1所述的半导体组件,还包括:一系列第三凸块,其设置于所述凸柱上,以提供该屏蔽盖与该封埋装置间的电性及热性连接。

4.如权利要求1所述的半导体组件,其中,第二路由电路包括侧向延伸超过该封埋装置外围边缘的至少一导线。

5.如权利要求4所述的半导体组件,还包括:一系列端子,其电性耦接至该第二路由电路及该屏蔽盖,并环绕该封埋装置。

6.如权利要求5所述的半导体组件,还包括:一加强层,其覆盖所述端子的侧壁。

7.如权利要求5所述的半导体组件,还包括:一系列第四凸块,其设置于所述凸柱上,以提供该屏蔽盖与所述端子间的电性连接。

8.如权利要求6所述的半导体组件,还包括:一外部路由电路,其设置于该加强层的一外表面上,其中该外部路由电路电性耦接至所述端子。

9.如权利要求1所述的半导体组件,其中,该封埋装置还包括一系列端子,其位于该密封材中,且环绕该第一半导体芯片,并电性耦接至该第一路由电路及该屏蔽盖,且朝该密封材的一相反第二表面延伸。

10.如权利要求9所述的半导体组件,其中,该密封材中的所述端子借由该封埋装置的该第一路由电路,电性连接至所述凸柱及该屏蔽盖。

11.如权利要求9所述的半导体组件,其中,该封埋装置还包括一外部路由电路,其设置于该密封材的该第二表面上,并电性耦接至该密封材中的所述端子。

12.一种具有电磁屏蔽及散热特性的半导体组件制作方法,其包括:

提供一封埋装置,其包含一第一半导体芯片、一密封材及一第一路由电路,该第一路由电路设置于该密封材的一第一表面,其中该第一半导体芯片嵌埋于该密封材中,并电性耦接至该第一路由电路;

借由一系列第一凸块,将一第二半导体芯片电性耦接至该封埋装置的该第一路由电路;

提供一散热座,其包含一屏蔽盖、凸柱及一第二路由电路,其中该第二路由电路具有一贯穿开口,且设置于该屏蔽盖的一表面上,而所述凸柱自该屏蔽盖的该表面凸出,并被该第二路由电路侧向环绕;以及

将该散热座叠置于该封埋装置上,并借由一系列第二凸块,将该散热座的该第二路由电路电性耦接至该封埋装置的该第一路由电路,同时将该第二半导体芯片的位置对应该第二路由电路的该贯穿开口,并使该第二半导体芯片贴附至该屏蔽盖。

13.如权利要求12所述的制作方法,还包括:设置一系列第三凸块于所述凸柱上,以电性耦接该屏蔽盖与该封埋装置。

14.如权利要求12所述的制作方法,还包括:形成一系列端子,其电性耦接至该第二路由电路及该屏蔽盖,并环绕该封埋装置。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于钰桥半导体股份有限公司,未经钰桥半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611058740.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top