[发明专利]高抗逆性的植物生长调节剂及其制法和用途有效
申请号: | 201611066258.7 | 申请日: | 2016-11-28 |
公开(公告)号: | CN106749080B | 公开(公告)日: | 2021-06-15 |
发明(设计)人: | 朱健康;张玉路;曹民杰;刘雪;王秋华 | 申请(专利权)人: | 中国科学院分子植物科学卓越创新中心 |
主分类号: | C07D265/18 | 分类号: | C07D265/18;C07D413/04;C07D239/80;A01N43/86;A01N43/54;A01P21/00 |
代理公司: | 上海一平知识产权代理有限公司 31266 | 代理人: | 王正君;马思敏 |
地址: | 200032 上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 抗逆性 植物 生长 调节剂 及其 制法 用途 | ||
1.一种式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体,
式中,
R1为F;
R2为F;
R3为F;
R4为F;
R5为C1-C3烷基;
R6为取代或未取代的C1-C5烷基、取代或未取代的C2-C5链烯基;并且所述的取代为选自下组的取代基:卤素、-ORb、-CN、-N(Rb)2;Rb为H;
R7选自下组:取代或未取代的C1-C4烷基、取代或未取代的C2-C4链烯基;其中所述的取代为选自下组的取代基:卤素、-ORb、-CN、-N(Rb)2;Rb为H;
R8、R9、R10各自独立地选自下组:
(i)H;
(ii)取代或未取代的C1-C4烷基、卤素;其中所述的取代为具有选自下组的取代基:卤素、-ORb、-CN、-N(Rb)2;Rb为H;
R11为H、C1-C3烷基、或C1-C3卤代烷基;
X为O;
m=1或2;
表示单键。
2.如权利要求1所述的式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体,其特征在于,所述化合物具有式Ia结构:
式Ia中,R1-R10、m的定义如上所述。
3.如权利要求1所述的式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体,其特征在于,所述化合物选自下组:
4.如权利要求1所述的式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体,其特征在于,所述化合物选自下组:
5.一种权利要求1所述式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体的用途,其特征在于,用于制备农用制剂或组合物,所述农用制剂或组合物用于(i)增强植物抗逆性;(ii)制备ABA受体的激动剂;和/或(iii)制备种子萌发抑制剂。
6.一种农用制剂,其特征在于,所述农用制剂包括:
(i)权利要求1所述的式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体;和
(ii)农业上可接受的载体。
7.一种增强植物抗逆性的方法,其特征在于,给所述植物施用权利要求1所述的式I化合物、或其盐、或其光学异构体、或其外消旋体或施用权利要求6所述的农用制剂。
8.一种式I化合物或其盐的制法,其特征在于,包括步骤:
(a)在惰性溶剂中,将化合物I-A与化合物I-S2进行反应,从而形成式I化合物;
上述各式中,R1、R2、R3、R4、R5、R6、R7、R8、R9、R10、R11、m、X、如权利要求1所定义。
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