[发明专利]微影方法在审
| 申请号： | 201611071435.0 | 申请日： | 2016-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN107045263A | 公开（公告）日： | 2017-08-15 |
| 发明（设计）人： | 訾安仁;张庆裕 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F7/34 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司72003 | 代理人： | 王芝艳 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种微影方法，包括：
形成一光致抗蚀剂于一基板上，其中该光致抗蚀剂包含一酸活性基团连接至一极性单元；
以一射线束曝光该光致抗蚀剂；
烘烤该光致抗蚀剂；以及
对该光致抗蚀剂进行一显影工艺。
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