[发明专利]字体处理方法和装置有效

专利信息
申请号: 201611073777.6 申请日: 2016-11-29
公开(公告)号: CN108121690B 公开(公告)日: 2020-08-07
发明(设计)人: 张国江;郝龙杰 申请(专利权)人: 北大方正集团有限公司;北京北大方正电子有限公司
主分类号: G06F40/109 分类号: G06F40/109;G06F40/106
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 宋扬;刘芳
地址: 100871 北京市海*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 字体 处理 方法 装置
【权利要求书】:

1.一种字体处理方法,其特征在于,包括:

对待处理字体的回路轮廓进行加粗处理,形成第一字体;

对所述待处理字体的回路轮廓和所述第一字体的回路轮廓内进行颜色填充处理,分别形成第一填充字体和第二填充字体;

显示第一填充字体和第二填充字体,以将第一填充字体和第二填充字体进行对比,识别出错误内外轮廓方向;

其中,所述对待处理字体的回路轮廓进行加粗处理,形成第一字体,具体包括:

对所述待处理字体的回路轮廓进行离散化处理;

将回路轮廓离散点向外进行平移处理;

将平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段和曲线段;

将拟合后的直线段和曲线段首尾顺次连接,形成第一字体。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述显示第一填充字体和第二填充字体,以将第一填充字体和第二填充字体进行对比,识别出错误内外轮廓方向之前,还包括:

对待处理字体的回路轮廓进行减细处理,形成第二字体;

对所述第二字体进行填充处理,形成第三填充字体;

其中,所述对待处理字体的回路轮廓进行减细处理,形成第二字体,具体包括:

对所述待处理字体的回路轮廓进行离散化处理;

将回路轮廓离散点向内进行平移处理;

将平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段和曲线段;

将拟合后的直线段和曲线段首尾顺次连接,形成第二字体。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述对所述第二字体进行填充处理,形成第三填充字体之后,还包括:

显示所述第三填充字体,以将第一填充字体分别和第二填充字体、第三填充字体进行对比,识别出错误内外轮廓方向。

4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述将平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段和曲线段,具体包括:

将所述平移处理后的回路轮廓离散点按待处理字体的回路轮廓的线段分成多个集合;

将每个集合中的平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段;

判断每个集合中的回路轮廓离散点与拟合的直线段上的对应点的误差是否均小于预设阈值;

若所述误差并非均小于预设阈值,则将所述集合中的平移处理后的回路轮廓离散点采用逐次调整拟合参数的最小二乘法拟合为三次贝塞尔曲线段。

5.一种字体处理装置,其特征在于,包括:

加粗处理模块,用于对待处理字体的回路轮廓进行加粗处理,形成第一字体;

填充处理模块,用于对所述待处理字体的回路轮廓和所述第一字体的回路轮廓内进行颜色填充处理,分别形成第一填充字体和第二填充字体;

显示模块,用于显示第一填充字体和第二填充字体,以将第一填充字体和第二填充字体进行对比,识别出错误内外轮廓方向;

所述加粗处理模块,具体包括:

第一离散化处理子模块,用于对所述待处理字体的回路轮廓进行离散化处理;

第一平移处理子模块,用于将回路轮廓离散点向外进行平移处理;

第一拟合处理子模块,用于将平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段和曲线段;

第一整合处理子模块,用于将拟合后的直线段和曲线段首尾顺次连接,形成第一字体。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,还包括:

减细处理模块,用于对待处理字体的回路轮廓进行减细处理,形成第二字体;

所述填充处理模块,还用于对所述第二字体进行填充处理,形成第三填充字体;

所述减细处理模块,具体包括:

第二离散处理子模块,用于对所述待处理字体的回路轮廓进行离散化处理;

第二平移处理子模块,用于将回路轮廓离散点向内进行平移处理;

第二拟合处理子模块,用于将平移处理后的回路轮廓离散点拟合为直线段和曲线段;

第二整合处理子模块,用于将拟合后的直线段和曲线段首尾顺次连接,形成第二字体。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北大方正集团有限公司;北京北大方正电子有限公司,未经北大方正集团有限公司;北京北大方正电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611073777.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top