[发明专利]一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置及方法

权利要求书

1.一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：在真空室(1)内安装有等离子体源(2)，在真空室(1)内远离等离子体源的区域内安装紫外光源(3)的阵列，载体气体管路(4)连接到真空室内的靠近等离子体源(2)一侧，载体气体管路另一端连接载体气体源，单体蒸汽管路(5)连接到真空室内等离子体源前方，单体蒸汽管路另一端连接单体蒸汽源；真空排气管(6)连接到真空室(1)内远离等离子体源(2)的一侧；真空排气管另一端连接到真空泵，待处理的基材(7)放在真空室(1)内。

2.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的等离子体源(2)是电极或感应线圈或微波天线中的一种，所述的等离子体源(2)的放电功率为5-1000W。

3.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的等离子体源(2)能够连续或断续工作，等离子体源(2)断续工作时，放电时间为2-100μs，放电中断时间为1-100ms。

4.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的紫外光源(3)相邻之间间隔10cm-50cm，且距离等离子体源20cm-80cm。

5.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的紫外光源(3)是紫外灯或紫外发光二极管中的一种。

6.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的紫外光源(3)的波长范围为180-380nm，紫外光源(3)的功率为0.1-200W。

7.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的紫外光源(3)能够连续或断续发光，紫外光源(3)断续发光时，发光时间为1μs–1s，发光中断时间为10μs–10s。

8.根据权利要求1所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置，其特征在于：所述的单体蒸汽管路(5)距离等离子体源(2)为5-30cm。

9.一种如权利要求1所述的紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层装置进行表面涂层的方法，其特征在于：主要包括以下步骤：

(1)、在真空室(1)内放置待处理的基材(7)，开启真空泵将真空室(1)内真空度抽到1Pa以下；

(2)、通入载体气体和单体蒸汽，维持真空室(1)内的真空度为2-30Pa；

(3)、开启等离子体源(2)放电产生等离子体，同时开启紫外光源(3)，单体蒸汽在等离子体和紫外辐照双重作用下发生聚合并沉积在基材表面形成涂层。

10.根据权利要求9所述的一种紫外辐照辅助等离子体聚合表面涂层方法，其特征在于：所述步骤(2)中的载体气体为氦气或氩气中的一种或两种的混合物。