[发明专利]聚合物、有机层组合物及形成图案的方法

说明书

本发明涉及一种聚合物、有机层组合物及形成图案的方法。所述聚合物包含由化学式1表示的结构单元：其中Ar¹及Ar²独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，A¹及A²独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A¹及A²中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A¹的氢可键结官能基的数量与A²的氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，L为二价有机基，且^＊为连接点。本发明的聚合物具有令人满意的溶解性特征以及优异的机械特征、耐蚀刻性及耐热性。[化学式1]所述化学式1与具体实施方式中所定义的相同。

相关申请的交叉参考

本申请主张在2015年12月16日在韩国知识产权局提出申请的韩国专利申请第10-2015-0180372号的优先权及权利，所述韩国专利申请的全部内容并入本文供参考。

技术领域

本发明涉及一种新颖聚合物、包含所述聚合物的有机层组合物、及使用所述有机层组合物来形成图案的方法。

背景技术

最近，根据电子装置的尺寸减小(微型化)及复杂性的高集成设计已加速更先进的材料及其相关工艺的发展，且因此，使用传统光致抗蚀剂的光刻也需要新的图案化材科及技术。在图案化工艺中，被称为硬掩模层的有机层可作为硬夹层而形成，以将光致抗蚀剂的精细图案向下转移至衬底上的足够深度且不使衬底塌陷。硬掩模层发挥夹层的作用，以通过选择性蚀刻工艺将光致抗蚀剂的精细图案转移至材料层。因此，硬掩模层需要例如耐蚀刻性等特征以耐受多个蚀刻工艺。另一方面，近来已提议旋涂方法来替代化学气相沉积(chemical vapor deposition，CVD)方法以形成硬掩模层。一般来说，由于耐热性及耐蚀刻性与旋转特征具有权衡关系，因此需要满足所有特征的有机层材料。

发明内容

本发明-实施例提供一种具有令人满意的耐热性及耐蚀刻性同时确保在溶剂中的溶解性、间隙填充特征及平坦化特征的聚合物。

另一实施例提供一种包含所述聚合物的有机层组合物。

再一实施例提供一种使用所述有机层组合物来形成图案的方法。

根据一实施例，一种聚合物包含由化学式1表示的结构单元。

[化学式1]

在化学式1中，

Ar¹及Ar²独立地为经取代或未经取代的苯环或包含两个至四个稠合的经取代或未经取代的苯环的芳环，

A¹及A²独立地为经取代或未经取代的芳环，其限制条件是A¹及A²中的至少一者经氢可键结官能基取代，且A¹的所述氢可键结官能基的数量与A²的所述氢可键结官能基的数量的总和大于或等于3，

L为二价有机基，且

*为连接点。

所述氢可键结官能基可为羟基、胺(amine)或其组合。

所述A¹及所述A²可独立地为选自群组1的经取代或未经取代的芳环基。

[群组1]

在群组1中，连接点不受特别限制。

所述L可由化学式Z1至化学式Z4中的一者表示。

[化学式z1]