[发明专利]一种甲基氯硅烷中乙基氢二氯硅烷的检测方法有效
申请号: | 201611085777.8 | 申请日: | 2016-11-30 |
公开(公告)号: | CN106770817B | 公开(公告)日: | 2019-04-16 |
发明(设计)人: | 吴红 | 申请(专利权)人: | 江西蓝星星火有机硅有限公司 |
主分类号: | G01N30/06 | 分类号: | G01N30/06;G01N30/86 |
代理公司: | 南昌新天下专利商标代理有限公司 36115 | 代理人: | 金一娴 |
地址: | 330319*** | 国省代码: | 江西;36 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 二氯硅烷 乙基 甲基氯硅烷 检测 内标法测定 气相色谱法 准确度 反馈数据 分离度 灵敏度 内标物 称取 生产工艺 | ||
本发明公开了一种甲基氯硅烷中乙基氢二氯硅烷的检测方法,这种方法是通过准确称取样品及内标物,采用气相色谱法内标法测定乙基氢二氯硅烷的检测方法,本方法具有处理样品简单,灵敏度、分离度及准确度高等优点,同时快速反馈数据以满足生产工艺需要。
技术领域
本发明涉及甲基氯硅烷生产检测技术,尤其涉及一种甲基氯硅烷中乙基氢二氯硅烷的检测方法
背景技术
有机硅的应用领域主要为建筑、汽车、电子电器/气、纺织、日化等行业,也是目前有机硅产品的最大用户。随着新能源、节能环保、医疗卫生、居家用品及高端制造等方面不断开发出新的用途,扩大了有机硅的应用。甲基氯硅烷是有机硅的基础原料,其精馏后得到二甲基二氯硅烷[(CH3)2SiCl2]是有机硅产品的主要原料,而其微量杂质组份乙基氢二氯硅烷(C2H5HSiCl2)对下游水解物、107胶、生胶等产品的质量形成一定影响,引起黄变、结构化等不良影响,随着国民经济的发展,市场追求的品质要求越来越高,杂质组份乙基氢二氯硅烷要求含量要小于50ppm;而目前甲基氯硅烷相关国家标准方法条件下,在甲基氯硅烷相关国家标准中侧重主含量分析,(CH3)2SiCl2与C2H5HSiCl2无法达到完全分离,导致其检出限太高,为150ppm,无法满足对C2H5HSiCl2的检测控制。
发明内容
本发明的目的是提供一种甲基氯硅烷中乙基氢二氯硅烷的检测方法,这种方法是通过准确称取样品及内标物,采用气相色谱法内标法测定乙基氢二氯硅烷的检测方法,样品处理简单,方法灵敏度及准确度满足有机硅生产工艺的检验要求。
一种甲基氯硅烷中乙基氢二氯硅烷的检测方法,具体步骤如下:
a.标准样品的配制:
于顶空瓶中准确称取20ml二基二氯硅烷溶剂及50μl乙基氢二氯硅烷,配制乙基氢二氯硅烷浓度为2000μg/g母液;
b.标准样品校正因子的测定及计算
准确称取20μl内标物辛烷和一定量2000μg/g的母液,用二基二氯硅烷作溶剂配制成25、50、90、150、250、350μg/g的乙基氢二氯硅烷标准溶液,用气相色谱仪测定乙基氢二氯硅烷和内标物辛烷的面积,计算得出标准溶液中乙基氢二氯硅烷相对内标物的校正因子;
标准溶液中乙基氢二氯硅烷的相对校正因子RFi,按下式计算:
式中:
Ti——乙基氢二氯硅烷的理论值,μg/g
AO——正辛烷的峰面积,pA×s
TO——正辛烷的理论值,μg/g
Ai——乙基氢二氯硅烷的峰面积,pA×s
c.试样的测定及计算
于顶空瓶中准确称取甲基氯硅烷试样10mL和20μl内标物辛烷,充分混匀;
试样中乙基氢二氯硅烷的计算
试样中乙基氢二氯硅烷的质量分数Wi,数值以μg/g表示,按下式计算:
式中:
Ai——乙基氢二氯硅烷的峰面积,pA×s
RFi——乙基氢二氯硅烷的相对校正因子
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江西蓝星星火有机硅有限公司,未经江西蓝星星火有机硅有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611085777.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。