[发明专利]导电性膜、硬涂膜和触控面板传感器在审
申请号: | 201611088984.9 | 申请日: | 2014-11-19 |
公开(公告)号: | CN107153478A | 公开(公告)日: | 2017-09-12 |
发明(设计)人: | 小川善正;中川博喜;芳片邦聪;大川晃次郎;黑田刚志 | 申请(专利权)人: | 大日本印刷株式会社 |
主分类号: | G06F3/041 | 分类号: | G06F3/041 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司11127 | 代理人: | 庞东成,褚瑶杨 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 导电性 硬涂膜 面板 传感器 | ||
1.一种硬涂膜,其是在透光性基材上依次层积有底涂层、高折射率层和低折射率层的硬涂膜,其中,
所述低折射率层在表面具有凹凸形状,
使用扫描型白色干渉显微镜在测定视野0.12mm□测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点平均粗糙度和算术平均粗糙度值均大于使用扫描型探针显微镜在测定视野5μm□测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点平均粗糙度和算术平均粗糙度的值。
2.如权利要求1所述的硬涂膜,其中,
使用扫描型白色干渉显微镜在测定视野0.12mm□测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点平均粗糙度为50~500nm,并且所述低折射率层的凹凸形状的算术平均粗糙度为0.5~10.0nm。
3.如权利要求1所述的硬涂膜,其中,
使用扫描型探针显微镜在测定视野5μm□测定的所述低折射率层的凹凸形状的十点平均粗糙度为50nm以下,并且所述低折射率层的凹凸形状的算术平均粗糙度为3.0nm以下。
4.如权利要求1所述的硬涂膜,其中,
所述底涂层含有微粒a,所述高折射率层含有微粒b,所述低折射率层含有微粒c,
所述微粒a的平均粒径为0.1~3.0μm,所述微粒b的平均粒径为15~50nm,并且所述微粒c的平均粒径为5nm以上且小于30nm。
5.如权利要求4所述的硬涂膜,其中,
所述底涂层含有的所述微粒a是二氧化硅微粒,所述高折射率层含有的所述微粒b是氧化锆微粒,并且所述低折射率层含有的所述微粒c是二氧化硅微粒。
6.如权利要求5所述的硬涂膜,其中,
所述底涂层含有的所述微粒a是球状二氧化硅微粒或胶态二氧化硅微粒,所述高折射率层含有的所述微粒b是无定形氧化锆微粒,并且所述低折射率层含有的所述微粒c是胶态二氧化硅微粒。
7.如权利要求4所述的硬涂膜,其中,
在所述高折射率层与所述低折射率层的界面形成有所述微粒b和所述微粒c均不存在的区域。
8.如权利要求1所述的硬涂膜,其中,
所述底涂层的折射率为1.45~1.60,所述高折射率层的折射率为1.55~1.75,所述低折射率层的折射率为1.35~1.55,并且
所述高折射率层、所述底涂层和所述低折射率层各自的折射率满足下式(2)的关系,
高折射率层的折射率>底涂层的折射率>低折射率层的折射率(2)。
9.如权利要求1所述的硬涂膜,其中,
在所述低折射率层的与所述高折射率层侧的面相对的一侧的面形成有导电层。
10.如权利要求9所述的硬涂膜,其中,
进一步具有在所述低折射率层和所述导电层之间形成的无机层。
11.一种触控面板传感器,其中,所述触控面板传感器具有权利要求1所述的硬涂膜。
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