[发明专利]一种高稳定性的铜纳米片的制备方法

权利要求书

1.一种高稳定性的荧光铜纳米片的制备方法，其特征在于该方法包括铜离子盐与烷基三甲基季铵盐型表面活性剂反应、还原反应、分离纯化步骤；铜纳米片的荧光强度可以通过调节铜离子盐、烷基三甲基季铵盐型表面活性剂、还原剂的比例来调控，具体步骤如下：

(1)铜离子盐与烷基三甲基季铵盐型表面活性剂反应：称取铜离子盐与烷基三甲基季铵盐型表面活性剂于容器，加入去离子水，搅拌溶解，搅拌时间为1-5小时，搅拌速度为500～2500rpm；所述烷基三甲基季铵盐型表面活性剂在去离子水中的浓度为0.005～5mol/L，铜离子盐与烷基三甲基季铵盐型表面活性剂的投料摩尔比例为0.05～10:1；

(2)还原反应：将还原剂溶于去离子水中，缓慢滴加到(1)所述溶液，搅拌反应；反应时间为0.5～24小时，反应温度为25℃，搅拌速度为500～2500rpm；还原剂与铜离子盐摩尔比例为0.05～5:1；

(3)分离提纯：将(2)得到的混合液经离心分离，得沉淀；重复水洗离心三次，每次加5-10毫升水重悬，离心弃上清；离心转速6000～15000g，时间0.1～1小时；得到的产物真空干燥，即为铜纳米片。

2.根据权利要求1所述高稳定性的荧光铜纳米片的制备方法，其特征在于：所述烷基三甲基季铵盐型表面活性剂为在水中可溶解且含有三个甲基、一条烷基长链的卤素季铵盐中一种或二种以上，所述铜离子盐为水溶性的二价铜离子盐中的一种或二种以上，所述的还原剂为水溶性还原剂中的一种或二种以上。

3.根据权利要求2所述高稳定性的荧光铜纳米片的制备方法，其特征在于：所述烷基三甲基季铵盐型表面活性剂具体为：十八烷基三甲基溴化铵，十八烷基三甲基氯化铵，十七烷基三甲基溴化铵，十七烷基三甲基氯化铵，十六烷基三甲基溴化铵，十六烷基三甲基氯化铵，十四烷基三甲基溴化铵，十四烷基三甲基氯化铵，十二烷基三甲基氯化铵，十二烷基三甲基溴化铵，十烷基三甲基溴化铵或十烷基三甲基氯化铵的中一种或二种以上。

4.根据权利要求2所述高稳定性的荧光铜纳米片的制备方法，其特征在于所述的水溶性铜离子盐具体为：氯化铜，溴化铜，硝酸铜或醋酸铜中的一种或二种以上。

5.根据权利要求2所述高稳定性的荧光铜纳米片的制备方法，其特征在于所述水溶性还原剂为抗坏血酸、水合肼、硼氢化钠中的一种或二种以上。