[发明专利]一种高纯钨表面生成WC方法

权利要求书

1.一种高纯钨表面生成WC方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)准备高纯钨零件，对其进行表面处理，待用；

(2)准备渗碳剂：渗碳剂由5wt％的BaCO₃和95wt％的木炭组成，将木炭置于石墨坩埚中，放入1900℃真空炉中保温1-2h，冷却到室温后取出待用；

(3)装炉：将高纯钨零件、渗碳剂一起置于石墨坩埚中，盖上石墨盖，放入真空热处理炉中；

(4)渗碳处理：采用高真空渗碳，真空度要求10^-2Pa，渗碳温度为1600～1800℃，保温3-4h，然后再通入1000Pa高纯氩气炉冷到室温取出；

(5)检验：通过物相分析及金相观察确定表面物相及WC层厚度；

其中，步骤(1)中所述高纯钨零件的表面处理为：首先采用皂液去除零件表面油污，再用酸性试剂进行化学清洗，最后用丙酮或酒精去除油脂，其中，酸性试剂为24-26wt％H₂SO₄、12-14wt％HNO₃和12-14wt％HF的混合溶液，混合溶液中三种酸的体积比为1:1:1；

步骤(3)中所述将高纯钨零件、渗碳剂一起置于石墨坩埚中，其中，高纯钨零件处于坩埚中间，渗碳剂分布于零件四周，高纯钨零件与渗碳剂的距离为2-10mm。

2.根据权利要求1所述的一种高纯钨表面生成WC方法，其特征在于，步骤(2)中所述木炭100目以上的颗粒大于总质量的60％，250目以上的颗粒大于总质量的30％。

3.根据权利要求1所述的一种高纯钨表面生成WC方法，其特征在于，步骤(5)中所述WC层厚度为7-15μm。