[发明专利]光刻掩模板

说明书

本发明涉及一种光刻掩模板，其包括：一基板；一碳纳米管层，所述碳纳米管层设置于所述第二基板的表面；一图案化铬层，覆盖于所述碳纳米管层远离第二基板的表面，且所述图案化铬层的图案与所述碳纳米管层中碳纳米管的排列图案相同；一遮盖层，所述遮盖层覆盖于所述图案化铬层远离第二基板的表面。本发明还涉及采用光刻掩模板制备微纳米结构的方法以及制备光刻掩模板的方法。

技术领域

本发明涉及一种光刻掩模板的技术领域，尤其涉及一种用于制备微纳米结构的光刻掩模板。

背景技术

目前，随着对微细结构研究的深入，微细结构可被应用于多个领域，如光学器件的特殊表面、疏水材料、减反射面等。例如在光学器件中，为了提高光的出射效率，一般会在导光板等结构中设置微结构。制备微结构的制作方法主要有光刻法、刻蚀法等。在这些方法中，光刻法由于工艺简单、操作方便、可大面积制备而被广泛使用。然而，一般光刻法中采用塑料、玻璃或金属图案化作掩模，制备得到的微结构尺寸精度低，难以做到纳米级尺寸。

发明内容

有鉴于此，确有必要提供一种可大面积制备、低成本的制备微纳米结构的光刻掩模板。

一种光刻掩模板，其包括：一基板；一碳纳米管层，所述碳纳米管层设置于所述第二基板的表面；一图案化铬层，覆盖于所述碳纳米管层远离第二基板的表面，且所述图案化铬层的图案与所述碳纳米管层中碳纳米管的排列图案相同；一遮盖层，所述遮盖层覆盖于所述图案化铬层远离第二基板的表面。

一种采用光刻掩模板制备微纳米结构的方法，其包括以下步骤：提供一第一基板，所述第一基板的表面上设置有一光刻胶层；将一光刻掩模板覆盖至所述光刻胶层的表面，所述光刻掩模板为上述所述的光刻掩模板；采用紫外光照射所述光刻掩模板，并使得该紫外光穿过所述基板及复合层入射至该光刻胶层上，对该光刻胶层进行曝光；对曝光后的光刻胶层进行显影处理。

一种制备光刻掩模板的方法，其包括以下步骤：提供一基板，在所述基板的表面上设置一碳纳米管层；在所述碳纳米管层远离所述基板的表面沉积一金属铬层，所述金属铬层包括一第一图案化铬层和一第二图案化铬层，所述第一图案化铬层沉积于碳纳米管层的碳纳米管表面，所述第二图案化铬层沉积在对应于碳纳米管层空隙暴露的基板的表面；将沉积第一图案化铬层的碳纳米管层从所述基板的表面转移至一第二基板的表面，并使该碳纳米管层与所述第二基板的表面接触设置；在所述第一图案化铬层远离所述第二基板的表面上沉积一遮盖层。

相较于现有技术，本发明提供的光刻掩模板采用了碳纳米管和金属铬对紫外光的吸收较强、透过率低的特点，且碳纳米管层中包括多个微孔，当紫外光照射光刻胶时，利用碳纳米管和金属铬与微孔对紫外线的透过率不同，容易制备得到图案化的光刻胶层，继而得到图案化的微纳米结构；采用碳纳米管和金属铬制备的掩模可重复使用，节约成本、易于产业化。

附图说明

图1为本发明第一实施例提供的所述微纳米结构的制备方法的流程图。

图2为本发明采用的碳纳米管拉膜的扫描电镜照片。

图3为本发明采用lift-off剥离方法制备微纳米结构的流程图。

图4为本发明第二实施例提供的所述微纳米结构的制备方法的流程图。

图5为本发明第三实施例提供的所述微纳米结构的制备方法的流程图。

图6为本发明第四实施例提供的所述微纳米结构的制备方法的流程图。

图7为本发明第四实施例提供的光刻掩模板。

图8为本发明第四实施例提供的所述光刻掩模板的制备方法的流程图。

图9为本发明第五实施例提供的所述微纳米结构的制备方法的流程图。

图10为本发明第五实施例提供的光刻掩模板。