[发明专利]一种检测器的校正方法和使用该校正方法的装置及设备有效
申请号: | 201611096516.6 | 申请日: | 2016-12-01 |
公开(公告)号: | CN106361367B | 公开(公告)日: | 2019-10-08 |
发明(设计)人: | 刘炎炎 | 申请(专利权)人: | 上海联影医疗科技有限公司 |
主分类号: | A61B6/03 | 分类号: | A61B6/03 |
代理公司: | 上海容慧专利代理事务所(普通合伙) 31287 | 代理人: | 于晓菁 |
地址: | 201807 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 校正 检测器 装置及设备 栅格片 遮挡 测量栅格 散焦校正 条状伪影 图像产生 图像校正 探测器 拆解 弧状 伪影 检测 焦点 | ||
1.一种探测器的校正方法,其特征在于:是通过对X射线管内的散射校正来进行,包括以下两个步骤:步骤1是通过测量栅格片倾斜角度或者利用CT机提供的不同焦点计算,而得到探测器的遮挡比例,步骤2是利用遮挡比例进行散焦校正;
步骤2是根据遮挡比例生成一系列卷积核,对每个探测器的响应进行卷积运算来进行散焦校正,步骤2中用来计算卷积核的公式为:
Kernel=Iofffocus*Attfiltration*SASG*k*(1+ratio)
其中Iofffocus为散焦强度,Attfiltration为CT机滤过的衰减,SASG为防散射栅格片的理论遮挡,ratio为遮挡比例,k为比例系数;
步骤1中用于计算探测器的遮挡比例的公式为:
其中A1和A2分别为两个焦点下的探测器响应;或者,
步骤1中用于计算探测器的遮挡比例的公式为:
Ratio=(L*tanα+L*tanβ)/Width
其中L为栅格片的高度,Width为探测器宽度,α和β为使用角度仪器测量每个探测器两侧栅格片的倾斜角度。
2.如权利要求1所述的校正方法,其特征在于:步骤1是利用CT机提供的不同焦点,通过CT机的原始数据直接计算得到遮挡比例。
3.如权利要求2所述的校正方法,其特征在于:步骤1中是使用飞焦点的两个焦点或使用单焦点的大小焦点来计算得到遮挡比例。
4.使用如权利要求1至3任一项所述校正方法的装置。
5.如权利要求4所述的装置,其特征在于,该装置是非均匀遮挡探测器,或者是能够使用该校正方法的其他装置。
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