[发明专利]一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备及封闭异氰酸酯的制备方法

权利要求书

1.一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：包括

隔绝空气单元，该隔绝空气单元用于隔绝空气对结晶物浆料分离溶剂过程的影响；

结晶物承载单元，该结晶物承载单元用于保持结晶物晶粒之间在相对静止的状态下进行加热分离溶剂；

供热单元，该供热单元用于为结晶物浆料分离溶剂提供热源。

2.根据权利要求1所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：结晶物承载单元为传送承载部件(210)或固定承载部件(220)，该传送承载部件(210)和固定承载部件(220)用于承载结晶物浆料。

3.根据权利要求2所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：所述的传送承载部件(210)是传送带，在传送带运动的过程中，结晶物浆料均匀的装铺于传送带的表面，结晶物浆料在传送带上连续化的装铺、并加热分离溶剂。

4.根据权利要求2所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：所述的传送承载部件(210)为往复运动的承载板，承载板往复运动的过程中，结晶物浆料均匀的装铺于承载板的表面，使得结晶物浆料在承载板上加热分离溶剂。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：隔绝空气单元包括密闭容器(110)和抽气装置(120)，其中结晶物承载单元设置于密闭容器(110)内，密闭容器(110)为结晶物浆料干燥提供封闭环境，抽气装置(200)将密闭容器(110)中的气体抽出并营造真空环境。

6.根据权利要求1-4任一项所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：隔绝空气单元包括密闭容器(110)和保护气体供气装置(130)，其中结晶物承载单元设置于密闭容器(110)内，密闭容器(110)为结晶物分离溶剂提供了封闭环境，保护气体供气装置(130)向密闭容器(110)供给保护气体隔绝了空气对结晶物浆料干燥过程的影响；所述的保护气体为N₂、CO₂或惰性气体中的一种或一种以上的混合物。

7.根据权利要求5所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：还包括

浆料加入装置(510)，该浆料加入装置(510)用于将结晶物浆料装铺于结晶物承载单元表面；

颗粒收集装置(410)，该颗粒收集装置(410)用于承接分离溶剂后结晶物颗粒；

溶剂冷凝装置(520)，该溶剂冷凝装置(520)用于将溶剂冷凝回收；

所述的颗粒收集装置(410)位于结晶物承载单元的下部，且颗粒收集装置(410)设置于远离浆料加入装置(510)的一端；所述的供热单元为加热装置(310)，所述的溶剂冷凝装置(520)经抽气装置(120)与密闭容器(110)相连。

8.根据权利要求6所述的一种用于封闭异氰酸酯结晶物的溶剂分离设备，其特征在于：还包括

浆料加入装置(510)，该浆料加入装置(510)用于将结晶物浆料装铺于结晶物承载单元表面；

颗粒收集装置(410)，该颗粒收集装置(410)用于承接分离溶剂后结晶物颗粒；

溶剂冷凝装置(520)，该溶剂冷凝装置(520)用于将溶剂冷凝回收；

所述的颗粒收集装置(410)位于结晶物承载单元的下部，且颗粒收集装置(410)设置于远离浆料加入装置(510)的一端；所述的供热单元为加热装置(310)或高温气体，所述的溶剂冷凝装置(520)与密闭容器(110)相连。

9.晶粒相对静止状态下分离溶剂的封闭异氰酸酯制备方法，其步骤为：

步骤一：将溶剂、封闭剂、异氰酸酯单体合成并析出结晶物；

步骤二：在隔绝空气的状态下对结晶物浆料进行加热，加热过程中结晶物浆料内的溶剂脱离结晶物，溶剂加热脱离结晶物的过程中保持结晶物晶粒之间相对静止，使结晶物浆料分离溶剂得到封闭异氰酸酯颗粒。

10.根据权利要求9所述的晶粒相对静止状态下分离溶剂的封闭异氰酸酯制备方法，其特征在于：步骤二中将结晶物浆料至于传送承载部件(210)或固定承载部件(220)上进行加热分离溶剂。