[发明专利]一种MOS电容三频率测量方法在审

专利信息
申请号: 201611106364.3 申请日: 2016-12-05
公开(公告)号: CN107037266A 公开(公告)日: 2017-08-11
发明(设计)人: 张希珍;陈宝玖;于涛 申请(专利权)人: 大连海事大学
主分类号: G01R27/26 分类号: G01R27/26
代理公司: 大连东方专利代理有限责任公司21212 代理人: 李洪福
地址: 116026 辽*** 国省代码: 辽宁;21
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摘要:
搜索关键词: 一种 mos 电容 频率 测量方法
【权利要求书】:

1.一种MOS电容三频率测量方法,其特征在于:包括以下步骤:

A、建立MOS电容的五元素等效电路模型;

B、采用两元素并联模型对所述MOS电容在三个频率下进行C-V特性测量;

C、根据所述五元素等效电路模型以及上述C-V特性测量数据提取MOS电容的六个辅助特征方程;

根据两元素并联模型在三个不同测量频率下的C-V测量数据,比较五元素等效电路模型和该两元素并联模型的阻抗的实部与虚部,得到辅助特征方程为:

其中,C、Rp、Ci、Ri和Rs分别代表五元素模型的MOS电容、并联电阻、界面层电容、界面层电阻和串联电阻;ω1=2πf1、ω2=2πf2和ω3=2πf3分别代表MOS测量的交流小信号的三个角频率,对应地f1、f2和f3代表三个测量频率;C1、C2、C3和R1、R2、R3分别代表在三个频率下测量的两元素并联模型的并联电容和并联电阻;A1、A2、A3和B1、B2、B3是设定的中间参数,其数值由方程(1)-(6)中第二个等号定义;

D、根据辅助特征方程求解得到MOS电容的电容值。

2.根据权利要求1所述的一种MOS电容三频率测量方法,其特征在于:步骤A所述的MOS电容的五元素等效电路模型,包括MOS电容C、并联电阻Rp、界面层电容Ci、界面层电阻Ri和串联电阻Rs,其中MOS电容C和并联电阻Rp并联,且界面层电容Ci和界面层电阻Ri并联,这两个并联电路串联后再和串联电阻Rs串联。

3.根据权利要求1所述的一种MOS电容三频率测量方法,其特征在于:步骤B所述的两元素并联模型是测量仪器中的MOS电容测量模型,包含并联电容和并联电阻,所述的并联电容和并联电阻在不同的三个频率下的测量结果分别用C1、C2、C3和R1、R2、R3表示;所述的三个频率是在定义的上限频率fmax和下限频率fmin所界定的区间内选取的三个不同频率,并用f1、f2和f3表示;其中,上限频率fmax取LCR测试仪的上限频率,下限频率fmin是保证用两元素并联模型测量得到的C-V曲线在强积累区刚好没有明显滚边的频率。

4.根据权利要求3所述的一种MOS电容三频率测量方法,其特征在于:所述的三个频率按如下方法选取:f1取仪器上限频率fmax,f3取下限频率fmin,f2取f1和f3的平均值。

5.根据权利要求3所述的一种MOS电容三频率测量方法,其特征在于:所述的频率f1-f2>100kHz,f2-f3>100kHz。

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