[发明专利]一种变基准面凹坑深度测量方法

权利要求书

1.一种变基准面凹坑深度测量方法，其特征在于，包括如下步骤：

（1）单束激光束从0度以每次n度的间隔沿半圆形轨道对位于半圆形轨道圆心的待测凹坑进行扫描，并将每一次扫描反馈的信号通过激光器内的信号处理单元对其结果进行处理，将每一次扫描得到的数据构成一个等距图，直至扫描到180度，即得到180/n个等距图；

（2）判断上述等距图上的等距线是否闭合；

（3）如果闭合，则在闭合的等距图上任意选取一条等距线，设其数值为c，选取其相邻的一条等距线，设其数值为d，当（c-d）/c≤1%，则采用c和d的平均值作为所述待测凹坑上基准面的数值，记为δ₁；选取该等距图中所有数值中的最大值作为所述待测凹坑下基准面的数值，记为δ₂，即得到的该次扫描下待测凹坑的深度值Δδ₁=δ₂-δ₁；

（4）如果不闭合，则在该等距图上选取任意一条等距线，设其数值为a，当该数值a与其他任意一条等距线的数值b的相对差值即（a-b）/b大于50%，视数值a为无效值，选择相对差值小于50%中与数值a相差最小的数值作为其有效值，将该有效值重新构成闭合的等距图；

（5）计算每一次扫描下待测凹坑的深度值Δδ₁，Δδ₂，Δδ₃……Δδ_180/n，对每一次深度测量值进行比较，选取其中的最大值作为凹坑的实际深度值。

2.如权利要求1所述的变基准面凹坑深度测量方法，其特征在于，n=1，2，3。

3.如权利要求1所述的变基准面凹坑深度测量方法，其特征在于，所述的待测凹坑是指深度在毫米级的凹坑。