[发明专利]原子层沉积设备及其抽气速率控制方法有效
申请号: | 201611112747.1 | 申请日: | 2016-12-07 |
公开(公告)号: | CN108070844B | 公开(公告)日: | 2019-10-18 |
发明(设计)人: | 吴学宪 | 申请(专利权)人: | 矽碁科技股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/455 | 分类号: | C23C16/455;C23C16/52 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 乔媛;汤在彦 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 反应室 抽气装置 原子层沉积设备 抽气 并联管路 供气装置 并联控制 反应气体 速率控制 阀门 抽气装置连接 供气装置连接 选择性提供 负载气体 可改变 泄气 | ||
1.一种抽气速率控制方法,其特征在于,所述抽气速率控制方法用于一原子层沉积设备,所述原子层沉积设备包含一反应室、一供气装置、一抽气装置及一并联管路,所述供气装置连接至所述反应室以选择性提供所述反应室至少二反应气体及至少一清泄气体,所述抽气装置连接至所述反应室以对所述反应室抽气,所述并联管路连接所述供气装置及所述抽气装置并包含一并联控制阀门,所述供气装置经由所述并联管路提供所述抽气装置不与所述至少二反应气体反应的一负载气体,所述抽气速率控制方法包含下列步骤:
当所述供气装置提供所述反应室所述至少二反应气体其中之一时,打开所述并联控制阀门以使所述抽气装置同时对所述反应室及所述并联管路抽气;以及
当所述供气装置提供所述反应室所述至少一清泄气体时,关闭所述并联控制阀门以使所述抽气装置对所述反应室抽气但不对所述并联管路抽气。
2.根据权利要求1所述的抽气速率控制方法,其特征在于,所述并联管路包含一负载腔体,用以容置所述负载气体,所述并联控制阀门位于所述负载腔体及所述抽气装置之间,当所述并联控制阀门打开时,所述抽气装置对所述负载腔体抽气,且当所述并联控制阀门关闭时,所述抽气装置不对所述负载腔体抽气。
3.根据权利要求2所述的抽气速率控制方法,其特征在于,所述负载腔体容积为所述反应室容积的1/5到5倍。
4.根据权利要求1所述的抽气速率控制方法,其特征在于,所述清泄气体为氮气或惰性气体。
5.根据权利要求1所述的抽气速率控制方法,其特征在于,所述负载气体为氮气或惰性气体。
6.根据权利要求1所述的抽气速率控制方法,其特征在于,所述清泄气体及所述负载气体均是不与所述至少二反应气体反应的气体。
7.一种原子层沉积设备,其特征在于,所述原子层沉积设备包含:
一反应室;
一抽气装置,连接至所述反应室;
一供气装置,包含至少三个气源,用以提供一第一反应气体、一第二反应气体、一清泄气体及一负载气体,所述供气装置连接至所述反应室以选择性提供所述反应室所述第一反应气体、所述第二反应气体及所述清泄气体,所述清泄气体及所述负载气体均是不与所述第一反应气体及所述第二反应气体反应的;以及
一并联管路,直接连接所述抽气装置及用以提供所述负载气体的气源,所述并联管路包含一并联控制阀门,所述供气装置经由所述并联管路提供所述抽气装置所述负载气体;
其中,当所述供气装置提供所述反应室所述第一反应气体或所述第二反应气体时,所述并联控制阀门打开以使所述抽气装置同时对所述反应室及所述并联管路抽气,以及当所述供气装置提供所述反应室所述至少一清泄气体时,所述并联控制阀门关闭以使所述抽气装置对所述反应室抽气但不对所述并联管路抽气。
8.根据权利要求7所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述并联管路包含一负载腔体,用以容置所述负载气体,所述并联控制阀门位于所述负载腔体及所述抽气装置之间,当所述并联控制阀门打开时,所述抽气装置对所述负载腔体抽气,且当所述并联控制阀门关闭时,所述抽气装置不对所述负载腔体抽气。
9.根据权利要求8所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述负载腔体容积为所述反应室容积的1/5到5倍。
10.根据权利要求7所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述清泄气体为氮气或惰性气体。
11.根据权利要求7所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述负载气体为氮气或惰性气体。
12.根据权利要求7所述的原子层沉积设备,其特征在于,所述清泄气体及所述负载气体均是不与所述第一反应气体及所述第二反应气体反应的气体。
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C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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