[发明专利]一种光学多层梯度薄膜及其制备装置有效
申请号: | 201611112817.3 | 申请日: | 2016-12-07 |
公开(公告)号: | CN106707374B | 公开(公告)日: | 2019-05-07 |
发明(设计)人: | 焦志伟;李经龙;程祥;相臣;林承友;石美浓;丁玉梅;杨卫民 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;G02B1/04;B29C48/18;B29C48/30;B29K33/00;B29K67/00;B29L7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 折射率 聚合物材料 制备装置 波段 多层梯度薄膜 高反射 梯度膜 生产成本低 物料适应性 成型装置 供料装置 光学薄膜 熔融塑化 制造工艺 周期结构 单元膜 汇流器 纳米级 全反射 组单元 层厚 可控 膜厚 薄膜 叠加 成型 应用 制造 保证 | ||
1.一种光学多层梯度薄膜的制备装置,其特征在于:主要包括有熔融塑化供料装置、汇流器、多个均匀层叠器、梯度膜厚层叠器和成型装置,熔融塑化供料装置、汇流器、多个均匀层叠器、梯度膜厚层叠器和成型装置前后依次串联,均匀层叠器有多个串联起来,相邻的均匀层叠器沿挤出轴线的法向旋转90度连接,汇流器将来自两个熔融塑化供料装置的两股熔体按照聚合物材料A/聚合物材料B周期结构厚度比叠合成具有两层结构的复合熔体,汇流器与均匀层叠器对接,均匀层叠器入口熔体通道尺寸与旋转90度的出口的熔体通道面积相同,复合熔体沿宽度方向平均分割成t等分,每一等分在均匀层叠器中继续向前流动时旋转90度并且展宽,在出口端相互汇流成为2×t层的叠层结构,相邻均匀层叠器的分层数相同或不相同,所得叠层结构熔体进入下一节均匀层叠器再平均分割成m等分,则可得到2×t×m层结构熔体;以此类推可以得到层数为x的结构复合熔体;层数为x的多层复合熔体进入一个梯度膜厚层叠器,熔体沿宽度方向梯度分割,梯度膜厚层叠器出口对应的有沿厚度方向相同梯度分割的2M组,梯度膜厚层叠器出口得到2Mx层的复合熔体,每组有x层,最后与成型装置连接;t为均匀层叠器复合熔体沿宽度方向平均分割的等分数,m为下一节均匀层叠器复合熔体沿宽度方向平均分割的等分数,x为薄膜进入梯度膜厚层叠器前的层数,x=2×t×m,t和m为不小于2的整数,x为由t和m及均匀层叠器数量决定的整数;M为光学薄膜中每个单元膜的组数,梯度膜厚层叠器将熔体沿宽度方向梯度分割成2M组,M为不小于2的整数。
2.根据权利要求1所述的一种光学多层梯度薄膜的制备装置,其特征在于:聚合物材料A为PMMA,聚合物材料B为PET,前M组实现对紫外波段的高反射,后M组实现对红外波段的高反射,M取4,PMMA/PET周期结构的厚度如下:第一组52.36nm/47.6nm,第二组55.66nm/50.6nm,第三组58.96nm/53.6nm,第四组62.26nm/56.6nm,第五组141.24nm/128.4nm,第六组151.25nm/137.5nm,第七组161.15nm/146.5nm,第八组171.16nm/155.6nm。
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