[发明专利]焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法

权利要求书

1.一种焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，包括以下步骤：

S1：读出电路制备底层金属；

S2：通过电阻加热蒸发铟膜，剥离制备铟柱；

S3：将制备好铟柱的读出电路放入等离子刻蚀设备中回流成球。

2.如权利要求1所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所述步骤S1中，用有机溶剂清洗读出电路芯片，清洗干净后进行光刻，然后沉积底层金属结构。

3.如权利要求2所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所述底层金属结构为Ti/Pt/Au/Cr。

4.如权利要求3所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所述步骤S2中，在有底层金属的读出电路芯片上光刻，利用电阻热蒸发的方法沉积铟膜，利用超声辅助剥离形成所需厚度的铟柱。

5.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所沉积铟膜厚度为3～5um。

6.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，剥离形成铟柱后，涂胶保护并划片。

7.如权利要求4所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所述步骤S3中，将制备好铟柱的的读出电路芯片清洗干净后放入等离子刻蚀设备中，等离子刻蚀设备为感应耦合等离子刻蚀设备或反应离子刻蚀设备。

8.如权利要求7所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，所述读出电路芯片放入等离子刻蚀设备中至后，在高真空的状态下，通入Ar和H₂，调整射频功率、压强、温度、气体流量刻蚀参数以获得均匀可靠的铟球。

9.如权利要求8所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，通入Ar：6sccm；H₂：25sccm；等离子刻蚀设备的刻蚀参数为：射频功率为300W，压强3Pa，温度180℃，时间240S。

10.如权利要求1-9中任一项所述的焦平面探测器铟柱等离子回流成球方法，其特征在于，还包括步骤：

S4：取出已经做好回流成球的读出电路芯片进行倒装焊接

取出铟柱已回流成球的读出电路芯片，测试阵列铟球的高度和直径，高度和直径的均匀性，满足倒装焊接要求的进行倒装焊接。