[发明专利]感光性树脂组成物、保护膜以及液晶显示元件有效
申请号: | 201611128296.0 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106909028B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 许智航;吴明儒;施俊安 | 申请(专利权)人: | 奇美实业股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/075 | 分类号: | G03F7/075;G02B1/14 |
代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 陶敏;臧建明 |
地址: | 中国台湾台南*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 感光性 树脂 组成 保护膜 以及 液晶显示 元件 | ||
本发明提供一种感光性树脂组成物、保护膜以及液晶显示元件,其能够提供良好的透明性与耐化学性。所述组成物包括:复合树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)以及溶剂(C),其中复合树脂(A)包括主链及侧链,主链包括(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系单体(a1‑2)的衍生重复单元;侧链包括硅氧烷系单体(a2)的衍生重复单元,且键结于(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系单体(a1‑2)的衍生重复单元;且复合树脂(A)符合下述条件(I)及(II)中的至少一个:条件(I):主链还包括含羧酸或羧酸酐的不饱和单体(a1‑1)的衍生重复单元。条件(II):硅氧烷系单体(a2)包括以通式(A‑4)所示的单体(a2‑1),通式(A‑4)与说明书中所定义的相同。
技术领域
本发明涉及一种感光性树脂组成物、保护膜及具有保护膜的元件,尤其涉及一种可形成透明性佳与耐化学性佳的保护膜的感光性树脂组成物、由该感光性树脂组成物所形成的保护膜、以及包括上述保护膜的液晶显示元件。
背景技术
近年来,在半导体工业、液晶显示器或有机电激发光显示器等领域中,随着尺寸的日益缩小化,对于微影制程中所需的图案的微细化也要求日高。为了达到微细化的图案,一般通过具有高解析及高感度的正型感光性材料经曝光及显影而形成,其中,以聚硅氧烷聚合物为成分的正型感光性材料渐成为业界使用的主流。
日本特开2008-107529号揭示一种可形成高透明度的硬化膜的感光性树脂组成物。该组成物中使用含环氧丙烷基或丁二酸酐基的聚硅氧烷聚合物,其于共聚合时经开环反应形成亲水性的结构,虽可于稀薄碱性显影液下得到高溶解性,然而,该感光性树脂组成物的耐化学性不佳,因此仍无法令业界所接受。
因此,业界亟待寻求一种能兼顾高透明性及耐化学性优异的感光性树脂组成物。
发明内容
有鉴于此,本发明提供一种用于液晶显示元件的感光性树脂组成物,其能够改善现有保护膜的透明性与耐化学性不佳的问题。
本发明提供一种感光性树脂组成物,其包括复合树脂(A)、邻萘醌二叠氮磺酸酯(B)以及溶剂(C),其中复合树脂(A)包括主链及侧链,主链包括(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系单体(a1-2)的衍生重复单元;侧链包括硅氧烷系单体(a2)的衍生重复单元,且键结于(甲基)丙烯酸硅氧烷酯系单体(a1-2)的衍生重复单元;且复合树脂(A)符合下述条件(I)及条件(II)中的至少一个:
条件(I):主链不包括含羧酸或羧酸酐的不饱和单体(a1-1)的衍生重复单元,含羧酸或羧酸酐的不饱和单体(a1-1)包含羧酸基结构及不饱和键,或者包含羧酸酐结构及不饱和键;
条件(II):硅氧烷系单体(a2)包括以下述通式(A-4)所示的单体(a2-1)。
Si(R7)w(OR8)4-w 通式(A-4)
通式(A-4)中,R7表示以下述通式(A-5)、通式(A-6)或通式(A-7)所示的结构、或碳数1~10的烃基、未经取代或部分氢原子以卤素或碳数1~10的烃基取代的苯基,但至少一个R7表示以下述通式(A-5)、通式(A-6)或通式(A-7)所示的结构。R8表示氢原子、碳数1~6的烃基、碳数1~6的酰基、或碳数6~15的芳香基。当通式(A-4)中具有2个以上的R7或R8时,各个R7或R8可彼此相同或不同。w表示1~3的整数。
通式(A-5)中,R9表示碳数1~10的烃基;m为0或1;*表示键结处。
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