[发明专利]一种LCD生产的蚀刻工艺

权利要求书

1.一种LCD生产的刻蚀工艺，其特征在于：包括以下步骤，1）备料，将14×14或者14×16的ITO玻璃的表面用清洗剂和DI水清洗干净，并且烘干；

2）涂胶，在ITO玻璃的ITO面上均匀的涂一层光刻胶；

3）前烘烤，使涂有光刻胶的ITO玻璃在80-120摄氏的的环境下烘烤30-60秒，使得涂覆在ITO玻璃上的光刻胶胶膜干燥以增强胶膜与ITO玻璃表面的粘附性和耐磨性；

4）曝光，在干燥后的胶膜的表面覆盖模板，紫外线通过模板垂直的照射在胶膜上，所述模板上设置有预设的图案；并且在模板的底部设置有一层透明的无色薄膜；

5）显影，将曝光后的ITO玻璃放入显影液中将光刻胶上的感光部分溶解，未感光的部分被留下来，并且通过DI水将ITO玻璃上的显影液冲洗干净；显影后光刻胶膜上显现出与模板上一致的图案；所述显影液氢氧化钠或氢氧化钾溶液；

6）坚膜，将显影后的ITO玻璃放入温度为250-350摄氏的烤箱内，时间为30-150分钟；

7）刻蚀，将坚膜后的ITO玻璃放入酸液中，将ITO玻璃上光刻胶未覆盖的ITO膜去掉，刻胶覆盖的ITO被保护下来；所述酸液的HCL：HNO=1:0.1的混合液。

2.根据权利要求1所述的LCD生产的刻蚀工艺，其特征在于：所述步骤4）中模板与光刻胶胶膜的距离为0-0.5mm。

3.根据权利要求1所述的LCD生产的刻蚀工艺，其特征在于：所述显影5）包括一级显影、二级显影、一级清洗和二级清洗；所述一级显影的溶液为浓度为0.5mol/L的氢氧化钠溶液，所述二级显影的溶液为2.5 mol/L的氢氧化钠溶液；所述一级清洗和二级清洗的溶液的DI水。

4.根据权利要求1所述的LCD生产的刻蚀工艺，其特征在于：所述步骤7）中酸液的配方为HCL：H₂O：HNO₃=1：1：0.1的混合液。