[发明专利]一种硼酸型修饰的高内相乳液制备大孔印迹聚合物吸附剂的制备方法有效
申请号: | 201611130247.0 | 申请日: | 2016-12-09 |
公开(公告)号: | CN106589217B | 公开(公告)日: | 2018-10-09 |
发明(设计)人: | 刘树成;潘建明;王晓静;吴润润 | 申请(专利权)人: | 江苏大学 |
主分类号: | C08F220/18 | 分类号: | C08F220/18;C08F222/14;C08F230/02;C08F2/24;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30;C07D311/30;C07D311/40 |
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地址: | 212013 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 吸附剂 高内相乳液 大孔 硼酸 印迹聚合物 修饰 环境功能材料 制备技术领域 选择性识别 自由基聚合 操作流程 木犀草素 亲和作用 天然黄酮 吸附容量 响应性能 解吸附 酸碱 吸附 印迹 | ||
本发明属于环境功能材料制备技术领域,涉及一种硼酸型修饰的高内相乳液制备大孔印迹聚合物吸附剂的方法。本发明通过高内相乳液自由基聚合的方法制备带有硼亲和作用的大孔印迹吸附剂;进行一系列处理后得到吸附剂,并将用于水溶液中天然黄酮木犀草素选择性识别和分离;本发明制备的硼酸型修饰的高内相乳液制备大孔印迹聚合物吸附剂,具有大的比表面积,非常大的吸附容量,具有良好的酸碱响应性能以及快速的吸附解吸附操作流程。
技术领域
本发明属于环境功能材料制备技术领域,涉及一种硼酸型修饰的高内相乳液制备大孔印迹聚合物吸附剂的方法。
背景技术
固体物质的表面对于流体都具有一定的物理吸附作用,吸附剂有巨大的内表面积和大的孔隙率,因此受到广泛的关注并且被应用于诸多领域,例如活性炭、活性氧化铝、硅胶和分子筛等等;制备吸附剂的传统方法就是通过聚合以表面活性剂来稳定的高内相乳液来制取,高内相乳液(High Internal Phase Emulsion,HIPE)又称高浓乳液,它是一种分散相体积分数大于74.05%的乳液。
硼亲和是指硼酸基团和顺式二羟基结构在碱性下结合生成五圆环结构,在酸性条件下发生解离。分子印迹技术是指分子印迹技术是制备具有识别性位点的三维材料。通过功能单体和模版分子的特性行识别来达到需求。分子印迹技术具有很多优势如活性位点嵌入过深,同时吸附动力学速率慢,吸附-解吸附的动力学性能不佳等。木犀草素作为天然黄酮类化合物,具有多种药理活性,如抗菌,抗癌,抗病毒,抗氧化等能力。因此回收它具有很大的意义。
因此本工作是乳液自由基聚合的方法制备大孔印迹吸附剂,在高内下乳液中中引入乙烯基硼酸单体然后用来吸附木犀草素利用硼亲和作用的原理。
发明内容
本发明利用乳液自由基聚合的方法制备大孔印迹吸附剂(MPs-BA-1)。首先合成具有硼酸亲和能力的连续相溶液,它先由丙烯酸丁酯和EGDMA组成一个混合溶液,然后再向上述混合溶液加入AIBN和VPBA最后都引入表面活性剂超级聚合物2296和K2SO4,形成稳定的W/O HIPEs乳液。然后将所得乳液恒温水浴,通过丙酮中索氏来纯化,得到MPs-BA-1。此外不加量的VPBA制备的样品,得到MPs-BA-0.
具有硼酸亲和能力的大孔聚合物(MPs-BA-1)和不具有硼酸亲和能力的大孔聚合物(MPs-BA-0)的制备方法,包括如下步骤:
(1)首先将丙烯酸丁酯和EGDMA混合,然后再加入VPBA和AIBN,作为连续相的混合物用超声波均匀分散4-6min;
(2)将步骤(1)得到的混合物在800rpm的恒定搅拌下,向其中加入表面活性剂超级聚合物2296和K2SO4,4-6min后形成稳定的W/O HIPEs乳液;
(3)将步骤(2)所得W/O HIPEs乳液转移到玻璃瓶中,将玻璃模具密封并在60-80℃的恒温水浴中加热6-24h,随后,通过在一定数量的丙酮中索氏来纯化所获得的MPs-BA-1和MPs-BA-0,然后真空烘干。
上述步骤中,用不加量的和加量的VPBA制备的样品分别命名为MPs-BA-0和MPs-BA-1。
步骤(1)中,所述的丙烯酸丁酯,EGDMA,VPBA,AIBN,表面活性剂2296,K2SO4的比例为(2-4)mL:(0.4-0.6)mL:(0-0.1)g:(0.005-0.02)g:(0.4-0.6)mL:(15-17)mL。
步骤(3)中,所述的真空烘干温度为40-60℃,时间为6-24h。
本发明的有益效果:
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