[发明专利]一种含铂中间层的锑掺二氧化锡电极的制备方法

权利要求书

1.一种含铂中间层的钛基锑掺二氧化锡电极的制备方法，其特征在于，在处理好的钛基体上先镀一层Pt薄膜，然后再涂覆上锡锑活性层，退火后即得所需电极。

2.根据权利要求1所述的含铂中间层锑掺二氧化锡电极，其特征在于铂中间层的厚度在1～10⁶nm范围内，铂中间层的制备发法可以是磁控溅射，电镀，蒸发镀膜，化学气相沉积等等，但不仅限于以上方法。

3.根据权利要求1所述的电极制备方法，衬底的尺寸形状并不固定，可以使用钛板作为衬底，也可以使用钛网，或钛棒等，电极的尺寸可以根据实际使用情况来确定。

4.根据权利要求1、3所述的含铂中间层锑掺二氧化锡电极的制备方法，其特征在于包括三个步骤：钛基体的预处理、铂中间层的制备和锡锑活性层的制备；其中钛基体的预处理又分为打磨、碱洗、酸洗，还可以将打磨处理换成喷砂处理。

5.根据权利要求4所述的钛基体预处理方法，其特征在于先后用40～800目砂纸反复打磨，直至钛板呈现出金属光泽，而喷砂处理则是将钛板表面打出均匀密布的麻坑；碱洗是指将打磨好的钛基体置于20～40wt％的NaOH溶液中80～95℃加热1～3小时，或者将其置于丙酮溶液中超声清洗10～30min；酸洗是指把碱洗后的钛基体放在10～40wt％的草酸或者盐酸溶液中，80～95℃加热1～3小时，直至其表面呈麻灰色。

6.根据权利要求1、4所述的锡锑活性层的制备方法，其特征在于活性层中锑原子相对于锡原子的摩尔比为1～15％，锡锑活性层的厚度在1～10⁶nm，锡锑活性层的制备方法也不局限于滴涂法，还可以是涂刷法、浸渍提拉法、旋涂法等；或者是电沉积、磁控溅射、蒸镀等方法。

7.根据权利要求1、6所述的锡锑活性层的制备方法，涂覆热解的过程中，退火温度可以在450～600℃之间选择，退火气氛可以是在大气环境下，也可以是氧气环境中。