[发明专利]一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法

权利要求书

1.一种建立用于计算沉积速率的理论模型的方法，其特征在于，包括：

调整离子束溅射薄膜沉积装置的工艺条件及衬底位置；

启动离子束溅射薄膜沉积装置且执行预定时间溅射工作；

将镀膜后的衬底划分成复数个小格，利用膜厚仪测量所述复数个小格的中心膜厚而获得复数个膜厚数据；

将所述膜厚数据除以所述预定时间而获得沉积速率数据；

对所述沉积速率数据进行数据拟合，获得理论模型中的未知参数。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述工艺条件包括离子束溅射薄膜沉积装置的束流、束压、靶材角度、靶材摆角。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底采用单面抛光的K9玻璃。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底的平面位置与水平面的垂直度小于0.1毫米。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述溅射工作的预定时间为50分钟。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述镀膜后的衬底被等分成复数个小格，每个小格的规格等同。

7.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述膜厚仪对单个小格进行多次测量，并对多次测量结果取平均值，以所述平均值作为所述小格的膜厚数据。

8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述数据拟合包括水平方向拟合和竖直方向拟合。

9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，所述理论模型为高斯模型，

10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述水平方向采用高斯公式进行拟合，获得拟合的结果参数；将所述拟合的结果参数沿竖直方向采用ECS公式获得高斯模型中的A参数，将所述拟合的结果参数沿竖直方向采用多项式拟合获得高斯模型中的ω参数。