[发明专利]一种镁铝尖晶石的制备方法

权利要求书

1.一种镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于采用直流电弧等离子体喷射化学气相沉积制备，步骤如下：

1)将铝片用砂纸打磨去除表面氧化层，将含有镍或镍离子、镁或镁离子的混合物涂于铝片表面，待混合物风干后，将铝片放入直流电弧等离子体喷射化学气相沉积反应炉中，样品与阳极圈距离为0-40mm；

2)关闭反应炉送样口，先后启动一级机械泵和二级分子泵抽真空，直至反应炉的腔压、泵压均达到100Pa以下；

3)向真空室内通入H₂、惰性气体和N₂的混合气体，将真空度保持在腔压0-3000Pa、泵压3000-20000Pa；

4)开启电源，施加电流和电压，调节样品与阳极圈距离使温度达到400-2300℃；

5)温度达到步骤4)要求范围开始计时，反应时间为1-100分钟，期间保持电压、电流、样品与阳极圈距离参数不变；

6)反应结束后，关闭电源，停止通入H₂、惰性气体和N₂的混合气体，继续抽真空至少5分钟，然后关闭真空系统，待系统冷却后，向反应炉中冲入空气，待反应炉气压与大气压相同时，打开反应炉取出制得的目标产品。

2.根据权利书要求1所述的镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于：铝片纯度为99.99％、规格为10mm×20mm×2mm；镍或镍离子、镁或镁离子的混合物涂抹于铝片表面的量为1-2毫升。

3.根据权利书要求1所述的镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于：步骤3)和步骤6)中所述H₂、惰性气体和N₂纯度皆为99.999％，H₂流量为100-3000sccm，惰性气体流量为100-3000sccm，N₂流量为10-1000sccm。

4.根据权利书要求1所述的镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于：步骤4)中所述施加的电流为120A，电压为60V。

5.根据权利书要求1或3所述的镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于：所述的惰性气体为Ar或He或Ne中的一种。

6.根据权利书要求1或2所述的镁铝尖晶石的制备方法，其特征在于：镍或镍离子、镁或镁离子的混合物为硝酸镍、硝酸镁混合溶液，母液为纯度为≧99.7％的酒精，硝酸镍、硝酸镁含量均为0.6mol/L。