[发明专利]一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法有效

专利信息
申请号: 201611138000.3 申请日: 2016-12-12
公开(公告)号: CN106725319B 公开(公告)日: 2019-09-10
发明(设计)人: 方龙杰;张诚;庞霖 申请(专利权)人: 四川大学
主分类号: A61B5/00 分类号: A61B5/00
代理公司: 北京同恒源知识产权代理有限公司 11275 代理人: 赵荣之
地址: 610065 四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 通过 散射 介质 聚焦 单元 裂解 调制 方法
【权利要求书】:

1.一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,包括调制器件,最佳相位寻找的步骤、四元裂解方法调制步骤;

其中,最佳相位寻找的步骤为在空间光调制器上进行0~2的相位变化,对入射平面波进行相位调制,用CCD接收相应的散斑图,计算聚焦处的光强大小,并进行比较,保存最大光强对应的相位值;

四元裂解方法调制步骤包括:每一个单元寻找其使得输出聚焦处强度最大的相位(最优相位),然后将这些单元顺序等分成四份,每个小单元在继承之前的优化相位的同时继续寻找更优的相位分布,依此类推,可将单元细分、优化到更小的单元,甚至空间光调制器的像素。

2.根据权利要求1所述一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,其特征在于,调制器件可以为任意的对入射光波有相位调制的器件。

3.根据权利要求1所述一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,其特征在于,最佳相位寻找的步骤进一步包括:

步骤A1:使空间光调制器上的独立单元进行0~2的相位变化,用CCD接收最后的实验结果图;

步骤A2:计算每张实验结果图中聚焦区域的光强大小,比较这些光强值,找出最大光强对应的相位值;

步骤A3:保存最佳相位值,加载到空间光调制器上。

4.根据权利要求1所述一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,其特征在于,四元裂解方法调制步骤进一步包括:

步骤A1:把空间光调制器的整个区域分为4个独立单元,对每个单元依次进行0~2的相位变化,同时保持其他单元的相位调制为0,找到每个单元的最佳相位,得到了这一层的最佳相位分布,称这一层为父层;

步骤A2:把父层中的每个单元等分成四份,每一小单元称为子层,首先使子层中的各单元继承父层的相位,同时使子层中的每个单元进行相位变化;当子层中某一个单元寻找到最佳相位后,随后进行下个子单元的最佳相位的寻找,同时把已寻找过的子单元赋值为最佳相位;这样就找到了四分后子层中每个单元的最佳相位分布;

步骤A3:利用同样的方法把各个子单元等分成四份,得到孙层单元,寻找最佳位相分布;依此类推,可将单元细分、优化直至重孙单元直至空间光调制器的像素大小。

5.根据权利要求1和4所述一种光通过散射介质聚焦的单元裂解调制方法,其特征在于,可以把空间光调制器上的单元分为整数(例如:3、4、5)个独立单元采用同样的方法调制。

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