[发明专利]一种抑制激光散斑的MEMS振镜及其制作方法

权利要求书

1.一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：该MEMS振镜由SOI片制成，包括反射镜面(31)、驱动反射镜面(31)振动的驱动梳齿(33)和反馈振动的检测梳齿(35)、谐振梁(39)，其中，所述反射镜面(31)的表面有波浪起伏结构，保证对入射光进行反射，同时干扰激光相位实现散斑抑制功能；

该制备方法包括以下步骤：

(1)在SOI的底层制备背腔，该背腔刻蚀至SOI埋氧层，使得埋氧层暴露出来；

(2)在SOI的器件层通过光刻、浅刻蚀和腐蚀抛光制作波浪形特征表面；

(3)在波浪起伏形特征表面沉积金属反射层，金属反射层仍然维持波浪特征；

(4)将步骤(3)获得的器件经过光刻并从器件层刻蚀到埋氧层，形成电隔离槽和振镜的主要结构，所述电隔离槽位于各梳齿结构与电极的周围；

(5)腐蚀暴露在背腔的埋氧层，完成振镜制作。

2.根据权利要求1所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述的波浪起伏结构指随机的特征尺寸范围的凸起或凹陷图形，且截面形貌为连续起伏的规则或不规则的波浪形，而非台阶形，保证波浪起伏的表面形貌利于得到更为丰富的激光相位差异和出射光角度微差异，增强激光散斑的抑制效果。

3.根据权利要求2所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述凸起或凹陷的图形为不同尺寸的圆形或正多边形，圆形的直径为2～100μm，正多边形外接圆的直径为2～100μm。

4.根据权利要求2所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：相邻凸起或凹陷之间的距离通过凸起或凹陷的表面覆盖率决定，凸起的高度或凹陷的深度由刻蚀的深度决定。

5.根据权利要求4所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述凸起的高度或凹陷的深度为入射光波长的1/4～2倍。

6.根据权利要求1所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述的反射镜面上表面进一步设置有金属层，提高反射镜面的反射率。

7.根据权利要求6所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述的金属层为厚度为50～500nm的金属铝或者厚度为5～20nm铬和50～500nm金的合金。

8.根据权利要求1至7中任一项所述的一种抑制激光散斑的MEMS振镜的制备方法，其特征在于：所述驱动梳齿(33)和检测梳齿均包括动梳齿和静梳齿，其中，反射镜面(31)和动梳齿通过谐振梁悬置连接外框架，静梳齿直接与外框架相连，检测梳齿的静梳齿通过电隔离槽隔离独立。