[发明专利]一种柔性透明导电膜的制备方法有效
申请号: | 201611157354.2 | 申请日: | 2016-12-15 |
公开(公告)号: | CN106601382B | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 徐苗;阮崇鹏;王磊;李民;邹建华;陶洪;彭俊彪;许志平 | 申请(专利权)人: | 华南理工大学 |
主分类号: | H01B13/32 | 分类号: | H01B13/32;H01B1/22;H01B5/14;B82Y30/00 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈文姬 |
地址: | 510640 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制备 复合导电层 柔性透明导电薄膜 柔性透明导电膜 水氧阻隔层 衬底 透明导电膜 透明聚合物 高导电性 平整表面 透明导电 抗弯折 支撑层 黏结层 解离 贴合 沉积 网络 | ||
1.一种柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)在临时衬底上通过溶液加工方法依次涂覆透明导电网络和透明聚合物支撑层,加热固化,得到复合导电层;
所述聚合物支撑层的厚度为10nm~1000nm;
(2)在透明聚合物支撑层上沉积水氧阻隔层;
(3)在水氧阻隔层之上覆盖柔性衬底;所述柔性衬底的可见光透过率大于85%;
(4)将柔性衬底、水氧阻隔层及复合导电层整体从临时衬底上剥离,得到柔性透明导电膜;
所述的柔性透明导电膜的制备方法还包括以下步骤:在临时衬底和透明导电网络之间沉积离型层;在水氧阻隔层和柔性衬底之间涂覆黏结层;
所述的水氧阻隔层水汽透过率低于5x10-5g/m2·day,氧气透过率低于1x10-3cm3/m2·day。
2.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述离型层采用物理溅射、化学气相沉积或者溶液加工方法制备;使用的材料为氮化硅,二氧化硅,钼,铝,银,钛,氟树脂溶液,硅树脂溶液,聚酰亚胺溶液,聚甲基丙烯酸甲酯溶液,聚苯乙烯溶液,聚乙烯吡咯烷酮溶液,聚乙烯醇溶液中的一种以上;
所述离型层或者采用以下方法制备:
使用偶联剂、表面活性剂与临时衬底表面反应,生成表面分子修饰层。
3.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述的溶液加工方法为旋转涂布,刮刀涂布,狭缝涂布,提拉涂布,凸版印刷,凹版印刷,丝网印刷,卷对卷,喷墨打印中的一种。
4.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述透明聚合物支撑层由环氧树脂,氟树脂,硅橡胶,硅树脂,聚丙烯,聚乙烯,或聚碳酸酯,或聚苯乙烯,或聚甲基丙烯酸甲酯中的任意一种制备而成;或者由以上材料中的两种以上的形成混合物或共聚物或层压物制备而成。
5.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,步骤(1)所述透明导电网络为碳纳米管分散液,石墨烯分散液,银浆和金属纳米线中的一种或一种以上。
6.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,步骤(2)所述的水氧阻隔层为单层或多层无机薄膜;
所述无机薄膜厚度为10nm~1000nm,由Al2O3,Si3N4,SiO2,TiO2,MgO,ZrO2,ZnO中的一种以上材料通过等离子体化学气相沉积或是物理气相沉积制备而成。
7.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,所述黏结层采用干膜贴覆法或溶液加工法制备而成;使用的材料为PSA或OCA。
8.根据权利要求1所述的柔性透明导电膜的制备方法,其特征在于,步骤(3)所述柔性衬底为由聚对苯二甲酸乙二醇酯,环烯烃聚合物,聚酰亚胺,聚碳酸酯,聚烯烃,聚醚酮,氟树脂,硅树脂中的一种材料制备而成;或者由以上材料的两种以上形成的混合物或共聚物或层压物制备而成;
步骤(1)所述临时衬底厚度为0.3mm~2.5mm,为硬质的玻璃、不锈钢、硅片、塑料板。
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