[发明专利]致密储层微观孔隙结构的表征方法有效

专利信息
申请号: 201611164619.1 申请日: 2016-12-16
公开(公告)号: CN108204936B 公开(公告)日: 2020-10-13
发明(设计)人: 李志鹏;刘显太;杨勇;郭迎春;吕广忠;陈利;卜丽侠;何伟;刘峰;孙玉花;高劲松;王玮;王瑞;张书凡 申请(专利权)人: 中国石油化工股份有限公司;中国石油化工股份有限公司胜利油田分公司勘探开发研究院
主分类号: G01N15/08 分类号: G01N15/08
代理公司: 济南日新专利代理事务所(普通合伙) 37224 代理人: 崔晓艳
地址: 257000 山*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 致密 微观 孔隙 结构 表征 方法
【权利要求书】:

1.致密储层微观孔隙结构的表征方法,其特征在于,该致密储层微观孔隙结构的表征方法包括:

步骤1,进行压汞实验数据处理;

步骤2,利用处理后的数据,绘制喉道半径与区间汞饱和度频率的直方图;

步骤3,根据喉道半径与区间汞饱和度频率直方图,选取主峰峰值半径Rf

步骤4,进行压汞数据截取处理;

步骤5,计算喉道与孔隙配置系数,利用压汞实验特征数据,求取喉道半径与对应区间汞饱和度乘积之和,作为喉道与孔隙的配置系数;

在步骤1中,基于岩心室内压汞实验得到的原始数据,得出每个喉道半径对应的区间汞饱和度:

ΔSgi=Sgi-Sgi-1

式中:ΔSgi为区间汞饱和度,%;Sgi为i数据点对应的累计汞饱和度,%;Sgi-1为i-1数据点对应的累计汞饱和度,%,Sg0=0;

从而计算区间汞饱和度频率:

式中:PSgi为区间汞饱和度频率,%;ΔSgi为区间汞饱和度,%;Sg为累计汞饱和度,%;

在步骤2中,根据步骤1中得到的压汞实验处理数据,绘制以喉道半径为横坐标,以与之对应的区间汞饱和度频率为纵坐标的频率直方图;

在步骤3中,根据步骤2绘制的频率直方图特征,选取主峰峰值对应的喉道半径,作为主峰峰值半径Rf,表征与孔隙连通最好的喉道半径的大小;

在步骤4中,在步骤1得到的处理数据基础上,以区间汞饱和度频率1%为截断值,舍弃区间汞饱和度频率小于1%的数据点,得到代表微观孔隙结构特征的特征数据,以消除统计过程中小概率数据对统计结果的影响,降低对微观孔隙结构特征的错误判断;

在步骤5中,利用步骤4得到的特征数据,计算致密储层微观孔隙结构喉道与孔隙配置关系系数:

式中:PZ为喉道与孔隙配置系数,μm%;ri为喉道半径,μm;ΔSgi为区间汞饱和度,%。

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