[发明专利]一种能自动调控溶液离子浓度的微流控器件、其制备及使用方法

权利要求书

1.一种能自动调控溶液离子浓度的微流控器件，其特征在于，该器件包含：

设置在衬底上的沟道系统；及

用于密封该沟道系统的盖板(500)；

其中，该沟道系统包含：扩散沟道(300)，及，分别设置在其两端的入口沟道和出口沟道，该入口沟道和出口沟道分别与外部压力控制设备相连；通过连接入口沟道的外部压力控制设备控制进入扩散沟道的若干路溶液形成层流，在扩散沟道中，待调控离子在浓度梯度作用下扩散，实现离子浓度再分布；完成待调控离子的浓度再分布后，通过连接出口沟道的外部压力控制设备使若干路溶液分别自与入口对应的出口流出；

所述的入口沟道包含若干在扩散沟道的一端交汇的入口；所述的出口沟道包含若干对应所述入口的出口，该出口在扩散沟道的另一端交汇。

2.如权利要求1所述的能自动调控溶液离子浓度的微流控器件，其特征在于，所述的入口沟道由呈角度设置的第一入口沟道(101)及第二入口沟道(102)构成，该第一入口沟道(101)作为缓冲液入口，第二入口沟道(102)作为待调控溶液入口；所述的出口沟道由呈角度设置的第一出口沟道(201)及第二出口沟道(202)构成，该第一出口沟道(201)作为缓冲液出口，该第二出口沟道(202)作为待调控溶液出口。

3.如权利要求2所述的能自动调控溶液离子浓度的微流控器件，其特征在于，所述的角度均小于90°。

4.如权利要求1所述的能自动调控溶液离子浓度的微流控器件，其特征在于，所述的沟道系统的材料选择PDMS、硅、玻璃中的任意一种或任意两种以上的组合。

5.一种根据权利要求1-4中任意一项所述的能自动调控溶液离子浓度的微流控器件的制备方法，其特征在于，该方法包含：

步骤1，在衬底上制备沟道系统：制备包含入口沟道、出口沟道和扩散沟道(300)的沟道系统；

步骤2，密封沟道系统：将盖板(500)与沟道系统粘合密封；

步骤3，使入口沟道和出口沟道分别与外部压力控制设备相连，通过该外部压力控制设备控制通过入口沟道进入的扩散沟道的若干路溶液为层流结构，待调控离子在浓度梯度作用下扩散，以实现待调控离子的浓度再分布。

6.一种根据权利要求1-4中任意一项所述的能自动调控溶液离子浓度的微流控器件的使用方法，其特征在于，该方法包含：

步骤1，使若干路包含不同浓度的待调控离子的溶液分别自入口沟道进入扩散沟道；

步骤2，通过连接入口沟道的外部压力控制设备控制进入扩散沟道的若干路溶液形成层流，在扩散沟道中，待调控离子在浓度梯度作用下扩散，实现离子浓度再分布；

步骤3，完成待调控离子的浓度再分布后，通过连接出口沟道的外部压力控制设备使若干路溶液分别自与入口对应的出口流出。