[发明专利]光学成像系统有效

专利信息
申请号: 201611178151.1 申请日: 2016-12-19
公开(公告)号: CN107085277B 公开(公告)日: 2019-08-02
发明(设计)人: 赖建勋;刘燿维;张永明 申请(专利权)人: 先进光电科技股份有限公司
主分类号: G02B13/00 分类号: G02B13/00;G02B13/18
代理公司: 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 代理人: 孙皓晨
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 光学 成像 系统
【权利要求书】:

1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:

一第一透镜,具有屈折力;

一第二透镜,具有屈折力;

一第三透镜,具有屈折力;

一第四透镜,具有屈折力;

一第五透镜,具有屈折力;以及

一成像面;

其中,该光学成像系统中具有屈折力的透镜个数为五枚,该第一透镜至该第三透镜中至少一透镜的至少一表面具有至少一临界点,该第一透镜至该第五透镜中至少两个透镜中的每个透镜的至少一表面具有至少一反曲点,该第一透镜至该第五透镜中至少一透镜具有正屈折力,该第一透镜至该第五透镜的焦距分别为f1、f2、f3、f4和f5,该光学成像系统的焦距为f,该光学成像系统的入射瞳直径为HEP,该第一透镜物侧面至该成像面于光轴上的距离为HOS,该第一透镜物侧面至该第五透镜像侧面于光轴上的距离为InTL,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE,其满足下列条件:1.0≤f/HEP≤2.0;0.5≤HOS/f≤3.0;以及0.9≤2×(ARE/HEP)≤1.5。

2.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于该成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,其满足下列关系式:0.5≤HOS/HOI≤1.6。

3.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统的最大可视角度的一半为HAF,其满足下列公式:0deg<HAF≤60deg。

4.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该成像面为一平面或一曲面。

5.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该光学成像系统于结像时的TV畸变为TDT,该光学成像系统于该成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,该光学成像系统的正向子午面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以PLTA表示,其正向子午面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以PSTA表示,负向子午面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以NLTA表示,负向子午面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以NSTA表示,弧矢面光扇的最长工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以SLTA表示,弧矢面光扇的最短工作波长通过该入射瞳边缘并入射在该成像面上0.7HOI处的横向像差以SSTA表示,其满足下列条件:PLTA≤50微米;PSTA≤50微米;NLTA≤50微米;NSTA≤50微米;SLTA≤50微米;以及SSTA≤50微米;│TDT│<150%。

6.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该多个透镜中任一透镜的任一表面的最大有效半径以EHD表示,该多个透镜中任一透镜的任一表面与光轴的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面的最大有效半径处为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARS,其满足下列公式:0.9≤ARS/EHD≤2.0。

7.根据权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,该第五透镜的物侧面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE51,该第五透镜的像侧面于光轴上的交点为起点,延着该表面的轮廓直到该表面上距离光轴1/2入射瞳直径的垂直高度处的坐标点为终点,前述起点与终点间的轮廓曲线长度为ARE52,第五透镜于光轴上的厚度为TP5,其满足下列条件:0.05≤ARE51/TP5≤15;以及0.05≤ARE52/TP5≤15。

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