[发明专利]基板清洗设备

说明书

本发明提供一种基板清洗设备，其通过采用由清洗旋转轴带动的密集排列的多个清洗刷头取代包裹在清洗旋转轴表面的毛刷，使得基板与毛刷之间的线接触变为基板与多个清洗刷头之间的面接触，从而大大增加基板在清洗时与清洗刷头之间的接触面积，提升清洗的接触时间，使基板背面的滚轮印清除的更加彻底，从而提升基板的清洁度，保证制程质量。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种基板清洗设备。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管显示器(Organic Light Emitting Diode，OLED)等平板显示器已经逐步取代阴极射线管(Cathode Ray Tube，CRT)显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)阵列基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由一TFT阵列基板、一彩色滤光片(Color Filter，CF)基板、以及配置于两基板间的液晶层(Liquid Crystal Layer)所构成，其工作原理是通过在TFT阵列基板与CF基板上施加驱动电压来控制液晶层中液晶分子的旋转，将背光模组的光线折射出来产生画面。

在TFT阵列基板的制作过程中，基板都需要经过涂布光刻胶、曝光、显影这样一个光刻工序。显影的目的是去除在曝光过程中发生了光学反应的光刻胶，从而在基板上形成与曝光掩模板对应的光刻胶图形，显影后基板上覆盖有光刻胶的位置，在下一个工序刻蚀的过程中由于光刻胶的保护，相应位置的金属或非金属膜不会受到损害，从而最后达到在基板上形成TFT电路的目的。在显影制程后基板会通过传送单元传送到基板清洗设备之后在传送到下一个制程设备中。

如图1及图2所示，现有技术中，显影设备之后的基板清洗设备通常包括：机架10、以及设于所述机架10上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区101、基板清洗区102、和第二基板传送区103；所述第一基板传送区101和第二基板传送区103均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴202，所述基板清洗区102包括：数个与传送旋转轴202平行且间隔排列的清洗旋转轴201；每一个清洗旋转轴201的侧面包裹有毛刷203，每一个传送旋转轴202上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮204，在所述基板清洗区102的上方布置有喷淋装置(未图示)，基板通过传送滚轮204传送到基板清洗区102中，通过喷淋装置对基板正面进行喷淋清洗，通过毛刷203对基板背面进行刷洗减少由传送滚轮204在传送过程中产生滚轮印，但由于当基板通过毛刷203时，毛刷203与基板之间的接触为线接触，接触面积较小，若滚轮印较严重，则无法清洗干净，导致基板无法使用，影响后段制程。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板清洗设备，能够有效去除基板背面的滚轮印，提升基板的清洁度，保证制程质量。

为实现上述目的，本发明提供了一种基板清洗设备，包括：机架、以及设于所述机架上的在同一平面上依次排列的第一基板传送区、基板清洗区、和第二基板传送区；

所述第一基板传送区和第二基板传送区均包括：相互平行间隔排列的多个传送旋转轴，所述基板清洗区包括：至少两个与传送旋转轴平行且间隔排列的清洗旋转轴；

每一个清洗旋转轴上均设有多个相互平行间隔排列的支撑轴，所述支撑轴与所述清洗旋转轴垂直传动连接，每一个支撑轴远离清洗旋转轴的一端套设有一个清洗刷头；

各个清洗刷头远离所述清洗旋转轴的一侧端面均位于与所述清洗旋转轴平行的同一平面上，相邻的两个清洗刷头的侧面相切；

每一个传送旋转轴上均套设有多个依次间隔排列的传送滚轮。

所述清洗旋转轴的数量为两个。