[发明专利]检测设备、曝光设备和制造设备的方法

说明书

公开了检测设备、曝光设备和制造设备的方法。该检测设备具有从相对于物体的表面的法线的倾斜方向投影光的投影系统22以及接收反射光20光接收系统23，并且该检测设备基于光接收系统23所获得的数据来检测表面的位置，反射光20包括前/背反射光，光接收系统23包括将反射光分离成第一/第二偏振光的偏振光分离单元15，以及用于检测第一/第二偏振光的检测单元16、17，投影系统22或光接收系统23被配置成使得由检测单元获得的背反射光的第一/第二偏振光相等，并且包括用于基于示出出第一/第二偏振光的数据之间的差分数据来计算位置的计算单元。

技术领域

本发明涉及检测设备、曝光设备以及制造设备的方法。

背景技术

在作为用于半导体设备等的制造工艺之一的光刻工艺中，使用曝光装置，该曝光装置经由投影光学系统将原版(original)的图案转印到基板上的曝光区域上。为了正确地转印图案，必须正确地检测基板的表面(曝光区域)在投影光学系统的光轴方向上的高度。因此，曝光装置包括检测基板的表面的高度的检测系统(检测设备)。

检测系统包括将检测光投影到基板的表面上的投影系统以及接收来自基板的反射光的光接收系统。如果透射检测光的透明基板(例如，玻璃)被用作基板，则来自基板的表面的反射光与来自基板的背面的反射光相互重叠，并因此会使检测精度劣化。这种不便随着近年来对更轻更薄的基板的需求而变得突出。日本专利特开No.2004-273828公开了从以上两种反射光中指定来自表面的反射光的方法。日本专利特开No.2010-271603公开了将具有与基板相同的折射率的流体置于基板的正下方以使光接收系统不接收来自背面的反射光的装置。

但是，依赖于透明基板的厚度，日本专利特开No.2004-273828中所公开的方法以及日本专利特开No.2010-271603中所公开的装置可能难以区分这两种反射光。

发明内容

例如，本发明是要提供在基板表面的高度的检测方面有利的检测方法。

本发明是如下的检测设备：该检测设备具有从相对于待检测物体的待检测表面的法线的倾斜方向投影检测光的投影系统以及接收由待检测物体反射的反射光的光接收系统，该检测设备基于光接收系统所获得的数据来检测待检测表面的位置，反射光包括在待检测表面上反射的表面反射光以及透射通过待检测表面并在待检测物体的背面上反射的背面反射光，光接收系统包括将反射光分离成第一偏振光分量和第二偏振光分量的偏振光分离单元，以及检测第一偏振光分量和第二偏振光分量的检测单元，投影系统或光接收系统被配置成使得由检测单元获得的背面反射光的第一偏振光分量与背面反射光的第二偏振光分量相等，并且包括基于由检测单元获得的示出第一偏振光分量的数据与示出第二偏振光分量的数据之间的差分数据来计算所述位置的计算单元。

本发明的进一步的特征根据下面参照附图对示例性实施例的描述将变得清楚。

附图说明

图1是示出了包括根据第一实施例的检测设备的曝光装置的配置的示意图。

图2是示出了在基板的表面上反射的光的路径以及在基板的背面上反射的光的路径的示意图。

图3是解释位置传感器不受背面反射光影响的情况的示意图。

图4示出了在图3的情况下由位置传感器输出的光强度分布。

图5是解释位置传感器受背面反射光影响的情况的示意图。

图6示出了在图5的情况下由位置传感器输出的光强度分布。

图7示出了检测光到基板的入射角与p偏振光的反射率以及s偏振光的反射率之间的关系。

图8示出了在入射角为78度时由位置传感器输出的s偏振光的光强度分布。

图9示出了在入射角为78度时由位置传感器输出的p偏振光的光强度分布。