[发明专利]一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法

权利要求书

1.一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法，其特征在于：包括如下步骤，

第一步，按照现有技术中的数据处理方法对中空微桁架结构三维模型进行工艺数模转化及成形性分析，并进行成形方案设计，即确定微桁架结构成形摆放位置和成形摆放角度；

第二步，将中间填充的点阵微单元结构从中空微桁架整体结构中单独分离出，即将中空微桁架整体结构分离为外侧蒙皮结构和有序排列点阵微单元结构的两个三维数据模型；

第三步，保存分离出的蒙皮结构和点阵微单元结构的工艺设计位置不变，分别对两个三维数据模型进行结构优化，确保蒙皮结构和点阵微单元结构完整无误；

第四步，根据蒙皮结构特点及成形经验，对分离出的蒙皮结构进行余量设计；

第五步，提取有序排列点阵微单元结构模型，对与蒙皮结构接触的点阵区域进行加强结合性能结构设计；

第六步，再次保存蒙皮结构和点阵微单元结构三维数据模型的现有位置不变，按照支撑结构设计原则分别对两个三维模型进行支撑结构设计处理；

第七步，分别对蒙皮结构和三维点阵微单元结构进行切片分层、扫描路径设计处理，得到两组增材制造成形工艺程序；

第八步，将第七步中所得的两组增材制造成形工艺程序分别按照保存设计位置调入成形设备；

第九步，浏览每层扫描信息，确认成形扫描程序无误，开始中空微桁架结构的增材制造成形；

第十步，对成形后的微桁架结构进行去支撑的后续处理得到最终中空微桁架结构实物；

其中，所述第五步中对与蒙皮结构接触的点阵区域进行加强结合性能结构设计，设计过程为，首先，选择与蒙皮结构接触的所有面，对接触面进行深入加长设计，即在保证原设计规格和距离的基础上，使得每个接触点均深入蒙皮结构内部；其次，对深入结构进行加粗和钝化结构设计优化处理，加大与蒙皮结构的接触面积，便于接触区域填充更多扫描线。

2.如权利要求1所述的一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法，其特征在于：第一步中的成形摆放角度为最外侧蒙皮结构表面与X轴夹角为20°-45°。

3.如权利要求1所述的一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法，其特征在于：第四步中的余量设计为结合成形设备和成形参量，蒙皮型面余量设计为0-0.6mm。

4.如权利要求1所述的一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法，其特征在于：每个接触点深入蒙皮结构内部的深入尺寸为0.3-0.5mm。

5.如权利要求1所述的一种加强增材制造微单元和蒙皮结构结合性能控制方法，其特征在于：对深入结构进行加粗和钝化结构设计优化处理的设计为处理后的尺寸为原尺寸的1.1-1.3倍。