[发明专利]抛光粒子‑分散层复合体及包括此的抛光料浆组合物

权利要求书

1.一种抛光粒子-分散层复合体，其包括：

抛光粒子；

第一分散剂，从氨基酸、有机酸、聚亚烷基二醇及葡萄糖胺化合物结合的高分子多糖体形成的群中选择的至少任何一个的阳离子性化合物；及

第二分散剂，在分子式内包括两个以上被离子化阳离子的阳离子性聚合物。

2.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子和所述第一分散剂的结合，及所述第一分散剂和第二分散剂的结合是化学结合。

3.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子表面、所述第一分散剂及第二分散剂显示阳电荷。

4.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述阳离子性聚合物包括由阳离子活性的两个以上的氮。

5.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，在所述抛光粒子-分散层复合体内，包括0.1重量百分比至10重量百分比的所述第一分散剂，且

在所述抛光粒子-分散层复合体内，包括0.01重量百分比至5重量百分比的所述第二分散剂。

6.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子-分散层复合体还包括：

非离子性化合物，从聚乙二醇、聚丙二醇、乙烯丙烯共聚物、聚烷基氧化物、聚氧化乙烯、聚环氧乙烷、聚环氧丙烷、聚乙烯吡咯烷酮、聚氧乙烯烷基醚、聚乙二醇烷基酯、聚氧乙烯醚、聚乙二醇磺酸、聚乙烯醇、聚氧化乙烯十二烷基醚、聚氧化乙烯十六醚、聚氧化乙烯油基醚、聚氧化乙烯去水山梨醇月桂酸酯及聚氧化乙烯苯基醚形成的群中选择的至少任何一个。

7.根据权利要求6所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，在所述抛光粒子-分散层复合体内包括0.001重量百分比至1重量百分比的所述非离子性化合物。

8.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子包括：

从金属氧化物、有机物或无机物被涂层的金属氧化物，及胶体状态的所述金属氧化物形成的群中选择的至少任何一个，且

所述金属氧化物包括：

从二氧化硅、二氧化铈、氧化锆、氧化铝、二氧化钛、钡二氧化钛、氧化锗、氧化锰及氧化镁形成的群中选择的至少任何一个。

9.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子的直径是10nm至300nm。

10.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子在所述抛光粒子-分散层复合体中是0.1重量百分比至10重量百分比。

11.根据权利要求1所述的抛光粒子-分散层复合体，其特征为，所述抛光粒子由液态法制造，使粒子表面具有阳电荷被分散。

12.一种抛光料浆组合物，其包括根据权利要求1至11中任何一项所述的抛光粒子-分散层复合体。

13.根据权利要求12所述的抛光料浆组合物，其特征为，所述抛光料浆组合物的pH是3至6。

14.根据权利要求12所述的抛光料浆组合物，其特征为，所述抛光料浆组合物的电动电位是10mV至60mV。

15.根据权利要求12所述的抛光料浆组合物，其特征为，利用所述抛光料浆组合物，抛光在覆盖晶片包括的氧化膜和氮化膜或氧化膜和聚膜的晶片时，对氧化膜：氮化膜或氧化膜：聚膜的抛光选择比是10:1至40:1。

16.根据权利要求12所述的抛光料浆组合物，其特征为，利用所述抛光料浆组合物，抛光在模式晶片包括氧化膜和氮化膜或氧化膜和多晶硅膜的晶片时，对氧化膜：氮化膜或氧化膜：多晶硅膜的抛光选择比是1:1至5:1。

17.根据权利要求12所述的抛光料浆组合物，其特征为，利用所述抛光料浆组合物，抛光包括氧化膜和氮化膜或氧化膜和聚膜的晶片之后，具有线路/空间基准100μm/100μm以下模式密度的晶片的凹陷发生量是以下，具有线路/空间基准300μm/300μm以上模式密度的晶片的凹陷发生量是以下。