[发明专利]一种聚合物复合电解质膜及其制备方法有效
申请号: | 201611190605.7 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN108232261B | 公开(公告)日: | 2022-03-22 |
发明(设计)人: | 杨扬;王晋;韩文;梅田浩明;国田友之;出原大辅 | 申请(专利权)人: | 东丽先端材料研究开发(中国)有限公司 |
主分类号: | H01M8/1018 | 分类号: | H01M8/1018;H01M8/1041;H01M8/1053;H01M8/1069 |
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地址: | 200241 上海市闵行*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 聚合物 复合 电解 质膜 及其 制备 方法 | ||
1.一种聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述聚合物复合电解质膜包含非氟聚合物电解质与疏水聚四氟乙烯多孔膜,且具有三层结构,上﹑下层为非氟聚合物电解质膜,中间层为非氟聚合物电解质与疏水聚四氟乙烯多孔膜的复合层,且复合层的离子交换容量大于1.50mmol/g,其中所述疏水聚四氟乙烯多孔膜的厚度为3~10微米,孔隙率为30~95%。
2.根据权利要求1所述的聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述聚合物复合电解质膜在80℃下饱和吸水后,水平方向的尺寸变化率低于3.00%。
3.根据权利要求1所述的聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述聚合物复合电解质膜充填率为85%以上,Gurley数大于10000秒。
4.根据权利要求1所述的聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述非氟聚合物电解质由嵌段共聚物形成,所述嵌段共聚物包含含有离子性基团的链段A1和不含有离子性基团的链段A2,且含有离子性基团的链段A1和不含有离子性基团的链段A2的摩尔比为0.15~5.0:1。
5.根据权利要求4所述的聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述含有离子性基团的链段A1含有下式S1表示的结构单元:
式S1中,X1表示直接键连接或酮基、砜基、-PO(R1)-或-C(CF3)2-中的一种;*表示结构单元S1与其他链段相连的连接点;Z1表示氧或硫中的一种;M1表示氢、金属阳离子、铵离子或C1~C20的烃基中的一种;m为0~4的整数,n为0~4的整数,且m和n不同时为0;R1为有机官能团。
6.根据权利要求4所述的聚合物复合电解质膜,其特征在于:所述不含离子性基团的链段A2含有下式S2表示的结构单元或者下式S3表示的结构单元:
式S2中,X2表示直接键连接或酮基、砜基、-PO(R2)-或-C(CF3)2-中的一种;*表示结构单元S2与其他链段相连的连接点;Z2表示氧或硫中的一种;R2为有机官能团;
式S3中,*表示结构单元S3与其他链段相连的连接点;Z3表示氧或硫中的一种。
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