[发明专利]一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜及其镀膜方法有效
申请号: | 201611190667.8 | 申请日: | 2016-12-21 |
公开(公告)号: | CN106653873B | 公开(公告)日: | 2017-11-17 |
发明(设计)人: | 于晓明;余璇;陈立桥;龙运前 | 申请(专利权)人: | 浙江海洋大学 |
主分类号: | H01L31/0216 | 分类号: | H01L31/0216;H01L31/18 |
代理公司: | 杭州杭诚专利事务所有限公司33109 | 代理人: | 尉伟敏 |
地址: | 316022 浙江省*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 太阳电池 掺杂 氧化锌 反射 薄膜 及其 镀膜 方法 | ||
1.一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜,其特征在于制备方法如下:
将硝酸锌、乙酰丙酮锌、硝酸镓和乙醇在20-80℃下混合并进行反应,陈化20-28h后形成镓掺杂氧化锌溶胶,然后将镓掺杂氧化锌溶胶涂覆在硅片表面形成连续薄膜,即为镓掺杂氧化锌减反射薄膜;其中配比溶液中硝酸锌的浓度为0.1-2mol/L,硝酸锌和乙酰丙酮锌物质的量比为1:0.8-1.2;镓离子的掺杂量为锌离子摩尔量的1-6%;
在制得所述镓掺杂氧化锌溶胶后,向镓掺杂氧化锌溶胶中添加其0.01-0.05倍质量的二氧化钛溶胶,然后搅拌均匀,得到混合溶胶;制得混合溶胶后,向混合溶胶中添加其0.1-0.2倍质量的溶有硬脂酸的三氯甲烷,在60-70℃下搅拌反应20-40min;然后再添加混合溶胶0.1-0.3倍质量的月硅酸钠溶液,在40-60℃下搅拌反应20-40min,最后用乙醇清洗溶胶并置换原溶剂,制得疏水改性混合溶胶;其中,所述硬脂酸在三氯甲烷中的浓度为4-6wt%,所述月硅酸钠溶液的浓度为0.1-0.2mol/L。
2.如权利要求1所述的一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜,其特征在于:所述镓掺杂氧化锌减反射薄膜的厚度为40-200纳米。
3.一种如权利要求1或2所述的硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜的镀膜方法,其特征在于包括以下步骤:
(1)硅片预处理并清洗干净;
(2)采用旋转涂膜、浸渍-提拉镀膜、喷雾镀膜或丝网印刷的方法将溶胶涂覆在预处理过的硅片表面之上,在95-105℃下烘干,然后在200-300℃下退火10-100min,即可生成镓掺杂氧化锌减反射薄膜。
4.如权利要求3所述的一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜的镀膜方法,其特征在于:所述硅片的预处理方法为:将硅片在5-15wt%的盐酸溶液中浸泡0.5-1.5h,然后取出洗净、干燥。
5.如权利要求3所述的一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜的镀膜方法,其特征在于:所述硅片为经过表面清洗、表面织构制备、PN结制备、刻边、表面钝化的单晶硅片或多晶硅片。
6.如权利要求3所述的一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜的镀膜方法,其特征在于:所述硅片为采用单晶硅片衬底,经过表面清洗、绒面制备、沉积5-50 nm非晶硅薄膜、形成异质结、沉积图形化顶电极的硅片。
7.如权利要求3所述的一种硅太阳电池的镓掺杂氧化锌减反射薄膜的镀膜方法,其特征在于:所述硅片为采用单晶硅片衬底,经过表面清洗、绒面制备、沉积10-150 nm PEDOT:PSS作为空穴传输层、沉积图形化顶电极的硅片。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的