[发明专利]一种电容式MEMS双轴加速度计

权利要求书

1.一种电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，所述加速度计由下到上依次包括：

基片、绝缘层、敏感器件层；敏感器件层包括：固定框架、折叠梁、敏感质量块、梳齿组合、锚点；其中，固定框架通过锚点固定在基片上，敏感质量块的4个端角分别设有一对折叠梁，每对折叠梁的中线正交，折叠梁的一端与固定框架连接，折叠梁的另一端与敏感质量块连接；敏感质量块四周分布有多个梳齿组合，梳齿组合包括：固定梳齿和可动梳齿，固定梳齿一端与固定框架连接，可动梳齿一端与敏感质量块连接，敏感质量块的质量大小能够调节；

所述加速度计还包括：第二固定框架，所述第二固定框架位于敏感质量块内，第二固定框架包括：第一固定杆、第二固定杆，第一固定杆与第二固定杆交叉连接呈十字状，第一固定杆与第二固定杆的中心重合，第一固定杆两侧和第二固定杆两侧均对称分布有多个第二梳齿组合，第二梳齿组合包括：第二固定梳齿和第二可动梳齿，第二固定梳齿一端与固定杆连接，第二可动梳齿一端与敏感质量块内壁连接；

分布在固定框架四周的固定梳齿连接相同的电极，分布在第二固定框架两侧的第二固定梳齿连接相同的电极，固定梳齿与第二固定梳齿数量相等，电极性相反。

2.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，4对折叠梁关于敏感质量块的几何中心对称，多个梳齿组合关于敏感质量块的中心线对称。

3.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，第一固定杆的两端和第二固定杆的两端分别朝敏感质量块内壁延伸，第一固定杆的两端和第二固定杆的两端分别设有限位结构。

4.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，所述敏感质量块内均匀设有至少一个空腔。

5.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，所述绝缘层上设有中心锚点，所述第二固定框架通过所述中心锚点固定在基片上，所述绝缘层上设有四周锚点，所述固定框架通过四周锚点固定在基片上。

6.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，固定梳齿与可动梳齿平行，且两者在水平方向或竖直方向具有重叠区域，可动梳齿与相邻的两个固定梳齿之间的间隙比值为1:4。

7.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，基片的材料为硅或玻璃，敏感器件层为重掺杂的硅，加速度计通过MEMS加工工艺完成。

8.根据权利要求1所述的电容式MEMS双轴加速度计，其特征在于，敏感质量块通过改变敏感质量块内腔体的大小和数量来实现质量调节。