[发明专利]表面形貌的量测方法有效
| 申请号： | 201611204915.X | 申请日： | 2016-12-23 |
| 公开（公告）号： | CN108240800B | 公开（公告）日： | 2020-03-10 |
| 发明（设计）人： | 张巍耀;杨蘭昇;翁義龙 | 申请（专利权）人： | 致茂电子(苏州)有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/24 | 分类号： | G01B11/24 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人： | 徐金国 |
| 地址： | 215011 江苏省苏州市苏州高*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 表面 形貌 方法 | ||
1.一种表面形貌的量测方法，其特征在于，包含：
(a)决定多个投影像素与多个影像感测像素之间于一待测面上的对应关系；
(b)利用所述多个投影像素提供一校正光至该待测面；
(c)决定至少一的所述投影像素于一第一曝光时间的亮度调整幅度，其中所述投影像素利用该亮度调整幅度能够让所述影像感测像素于该待测面上感测到亮度实质均匀的校正光；以及
(d)提供具该亮度调整幅度的一第一结构光至该待测面以测量表面形貌，其中该第一结构光是由所述多个投影像素所产生，且所述多个投影像素产生至少二幅不同的投影图案以叠加成该第一结构光。
2.根据权利要求1所述的量测方法，其特征在于，其中每一幅所述投影图案具有一光束调制时间，该第一曝光时间大于该光束调制时间。
3.根据权利要求1所述的量测方法，其特征在于，其中步骤(c)包含：
(c1)将该待测面上的该校正光的一暗区的亮度调整至一预定灰阶值，并得出该第一曝光时间与该预定灰阶值的关系式。
4.根据权利要求1所述的量测方法，其特征在于，其中步骤(b)包含：
(b1)提供一光束至所述多个投影像素；以及
(b2)所述多个投影像素调制该光束以形成该校正光。
5.根据权利要求4所述的量测方法，其特征在于，还包含：
(e)提高该光束的亮度以缩短该第一曝光时间。
6.根据权利要求1所述的量测方法，其特征在于，其中步骤(a)包含：
(a1)提供一第二结构光至该待测面，其中该第二结构光是由所述多个投影像素所产生；以及
(a2)根据该待测面的该第二结构光以定义所述多个投影像素与所述多个影像感测像素之间的对应关系。
7.根据权利要求1所述的量测方法，其特征在于，其中步骤(d)包含：
(d1)根据该亮度调整幅度以决定至少一的所述投影像素的一可调制灰阶深度；
(d2)决定该第一结构光的一灰阶调制深度；
(d3)根据该可调制灰阶深度与该灰阶调制深度以决定所述多个投影图案的张数与灰阶值；
(d4)叠加所述多个投影图案以形成该第一结构光；以及
(d5)提供该第一结构光至该待测面。
8.根据权利要求7所述的量测方法，其特征在于，其中步骤(d3)包含：
(d31)调整所述投影图案的调制方式以减少所述投影图案的数量。
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