[发明专利]具有BMP/PLA缓释涂层的种植体活性表面

权利要求书

1.一种具有BMP/PLA缓释复合涂层的种植体活性表面，其特征在于，所述种植体外表面具有钛基底层，所述钛基底层外表面具有二氧化钛基层，所述二氧化钛基层上涂覆有BMP/PLA复合涂层。

2.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，该种植体活性表面制备方法包括以下步骤：

(1)将钛金属种植体表面用200、300、600和2000目砂纸逐级打磨，清洗，在60℃烘干；

(2)用75μmTiO₂颗粒，通过喷嘴对种植体表面进行喷砂处理；

(3)将喷砂处理后的种植体置于氢氟酸与盐酸组成的混合酸蚀剂中进行表面刻蚀处理，取出种植体超声清洗，室温自然干燥；

(4)将进行表面刻蚀处理、干燥后的种植体置于60℃、5mol/L NaOH溶液孵育24-48h，用水超声清洗后，干燥后600℃下处理1-2h；

(5)将高温处理后的种植体在紫外线下消毒24-48h；

(6)将聚乳酸溶于CH₃Cl₃，加入蒸馏水制成乳化液，将步骤(5)中紫外线消毒好的种植体，在无菌条件下浸入聚乳酸乳化液中，置于通风处蒸发水和溶剂，重复上述操作数次，得聚乳酸涂层种植体；

(7)聚乳酸涂层种植体浸入1-3mg/mL BMP-2溶液中，在4℃下放置24-48h，真空冷冻干燥。

3.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，在步骤(2)中，所述的喷砂处理条件为：压缩空气压力为0.3-0.4MPa，喷嘴离种植体表面的距离为5-10cm，喷射时间为2-10s。

4.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，在步骤(3)中，所述的混合酸蚀剂为47％的氢氟酸与38％的盐酸以体积比1:1混合的混合液。

5.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，在步骤(3)中，所述的表面刻蚀处理温度为60℃，刻蚀处理时间为10-20min。

6.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，在步骤(7)中，每隔12小时换BMP-2溶液一次。

7.根据权利要求1所述的种植体活性表面，其特征在于，所述BMP-2溶液的制备步骤为：将BMP-2溶解于pH值为7.0的PBS或溶解于SBF溶液中。