[发明专利]一种具有BMP‑2缓释复合涂层的种植体

权利要求书

1.一种具有BMP-2缓释复合涂层的种植体，所述种植体的外表面设置有螺纹，所述种植体两端分别为颈部和头部，其特征在于，所述头部的外表面上设置有螺旋状自攻槽，所述螺旋状自攻槽的螺旋方向与螺纹螺旋方向相同，所述螺旋状自攻槽的螺纹升角与螺纹的螺纹升角不同；所述种植体外表面具有钛基底层，所述钛基底层外表面具有二氧化钛基层，所述二氧化钛基层上涂覆有钙磷离子/BMP复合涂层。

2.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，该种植体的BMP-2缓释复合涂层的制备方法包括以下步骤：

(1)将钛金属种植体表面用200、300、600和2000目砂纸逐级打磨，清洗，在60℃烘干；

(2)以烘干后的种植体为阳极、铂片为阴极、0.5％HF水溶液为电解液，在20V电压下使用两电极体系阳极氧化0.5-2h，取出种植体超声清洗，室温自然干燥；

(3)将干燥后的种植体置于氢氟酸与盐酸组成的混合酸蚀剂中进行表面刻蚀处理，取出种植体超声清洗，室温自然干燥；；

(4)将进行表面刻蚀处理后的种植体置于60℃、5mol/L NaOH溶液孵育24-48h，用水超声清洗、干燥后，在600℃下处理1-2h；

(5)将高温处理后的种植体在紫外线下消毒24-48h，在无菌条件下，浸入含有1-5mg/mL BMP-2的SBF溶液中，在37℃下孵育12-48h。

3.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在在步骤(5)中，在所述的种植体浸入含有BMP-2的SBF溶液的过程中每隔12小时换液一次。

4.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在步骤(3)中，所述的混合酸蚀剂为47％的氢氟酸与38％的盐酸以体积比1:1混合的混合液。

5.根据权利要求2所述的种植体，其特征在于，在步骤(3)中，所述的表面刻蚀处理温度为60℃，刻蚀处理时间为10-20min。

6.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，所述自攻槽由两个圆弧面组成，两个圆弧面的结合部位为相切连接；所述自攻槽个数为两个以上，所述两个以上自攻槽均布在头部的外表面；所述头部为锥台，所述头部锥台的大径端靠近颈部，所述头部远离颈部的一端为圆弧面；所述颈部为锥台，所述颈部锥台的大径端靠近头部；所述自攻槽的深度自头部锥台的小径端向头部锥台的大径端逐渐变浅。

7.根据权利要求1所述的种植体，其特征在于，所述盲孔与种植体同轴，所述盲孔包括同轴顺次连接的圆锥孔、梅花形孔、圆柱孔和螺纹孔，所述圆锥孔靠近盲孔开口端，所述圆锥孔为符合莫氏圆锥面的圆锥孔；所述梅花形孔为横截面为梅花形通孔。