[发明专利]一种具备氮钇锆硬质涂层钨镍合金的制备方法在审
申请号: | 201611212383.4 | 申请日: | 2016-12-25 |
公开(公告)号: | CN108239716A | 公开(公告)日: | 2018-07-03 |
发明(设计)人: | 不公告发明人 | 申请(专利权)人: | 青岛祥智电子技术有限公司 |
主分类号: | C22C29/08 | 分类号: | C22C29/08;C22C1/05;C22C1/10;C23C14/34;C23C14/06 |
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地址: | 266100 山东省青岛*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 钨镍合金 氮钇锆 制备 硬质涂层 硬质合金 孔洞 压强 硬质合金基体 表面制备 采用直流 氮气分压 射频反应 制备过程 综合性能 高硬度 共溅射 镍池 细晶 沉积 合金 | ||
1.一种具备氮钇锆硬质涂层钨镍合金的制备方法,该方法包括如下步骤:
(1)制备基体
按以下重量组份配制混合粉
碳化钨,90.1%-92.8%,费氏粒度0.8-1μm;
镍粉,5%-6%,费氏粒度0.5-1.0μm;
碳化铬,余量;
将上述配比的混合粉进行湿磨;其中球磨时间分段控制;先将碳化物粉及添加剂碳化铬加入球磨筒湿磨12-16小时,再加入镍粉湿磨14-18小时;
将球磨完毕的混合料料浆干燥;
将干燥混合料压制成所需形状的压制品;
将压制品放在烧结炉内高温烧结,烧结温度为1450-1470℃,保温时间70-90min,烧结压力为4.5-5.0Mpa,获得钨镍合金基体;
(2)基体预处理
所述基体预处理,可依次进行研磨抛光、超声清洗和离子源清洗;
(3)预溅射
所述预溅射的条件是,基体温度为300℃,通入氩气,调节溅射腔体内工作压强至1Pa,Zr靶材的直流电源功率为200W,Y靶材的射频电源功率为100W,预溅射时间为10min,以去除靶材表面的氮化物、氧化物等,提高靶材的溅射速率;所述氩气和氮气纯度可为99.99%,Zr靶材的纯度可为99.995%,Y靶的纯度可为99.9%;
(4)溅射沉积
所述溅射沉积的条件是,在预溅射结束后,通入氩气和氮气,总通量为60sccm,其中氮气流量为10%-15%,沉积的工作压强为0.2-0.3Pa,Zr靶材的直流电源功率为250W,Y靶材的射频电源功率为100-150W,两靶面呈90°,共同的辉光区域对准硬质合金基体,溅射时间为90min,基体温度为300℃;所述氩气和氮气纯度可为99.99%,Zr靶材的纯度可为99.995%,Y靶的纯度可为99.9%。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述步骤(2)中,所述研磨抛光,可将基体先在600目的金刚石砂轮盘上进行粗磨10min,然后在1200目的金刚石砂轮盘上进行细磨10min,再用W2.5的金刚石抛光粉进行抛光至试样表面均匀光亮,所述超声清洗,可将研磨抛光后的基体按以下顺序清洗,丙酮超声清洗5min→无水乙醇超声清洗5min→烘干待用,所述离子源清洗,可采用霍尔离子源对基体进行清洗5min,压强为2×10-2Pa,基体温度为300℃,氩气通量为10sccm,偏压为-100V,阴极电流为29.5A,阴极电压为19V,阳极电流为7A,阳极电压为80V,以清除基体表面的吸附气体以及杂质,提高沉积涂层与基体的结合强度以及成膜质量。
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