[发明专利]显示面板及其制作方法以及显示装置有效

专利信息
申请号: 201611220093.4 申请日: 2016-12-26
公开(公告)号: CN106773205B 公开(公告)日: 2019-09-17
发明(设计)人: 曹可;杨成绍;操彬彬;韩领 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 11105 代理人: 焦玉恒
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 显示 面板 及其 制作方法 以及 显示装置
【说明书】:

一种显示面板及其制作方法以及显示装置。该显示面板包括相对间隔设置的阵列基板和对置基板;阵列基板包括第一衬底基板以及设置在第一衬底基板上的源极、漏极、有源层以及设置在源极、漏极和有源层上的钝化层;对置基板包括第二衬底基板和设置在第二衬底基板上的栅极;有源层包括源极区域、漏极区域以及源极区域和漏极区域之间的沟道区,栅极与沟道区所在位置处的钝化层相对间隔设置。由此,该显示面板可用于形成曲面显示面板,并具有较高的良率和品质。

技术领域

发明的实施例涉及一种显示面板及其制作方法以及显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展,曲面显示面板越来越流行。通常,曲面显示面板的整个屏幕为朝用户方向包围的弧形设计,从而可提供宽阔的全景影像效果。相对于平面显示面板,除了显示面板的屏幕中心,曲面显示面板的屏幕边缘也能提供较佳的观看效果。

通常,曲面液晶显示面板通过先制作平面液晶显示面板,然后弯曲平面液晶显示面板制成。液晶显示面板包括阵列基板、彩膜基板以及设置在阵列基板和彩膜基板之间的液晶层。阵列基板包括衬底基板、设置在衬底基板上的由栅极、栅极绝缘层、有源层、源漏电极等组成的薄膜晶体管阵列以及像素电极等。彩膜基板包括衬底基板、设置在衬底基板上的彩膜片和黑矩阵等。

发明内容

本发明至少一个实施例提供一种显示面板及其制作方法以及显示装置。该显示面板包括相对间隔设置的阵列基板和对置基板;阵列基板包括第一衬底基板以及设置在第一衬底基板上的源极、漏极、有源层以及设置在源极、漏极和有源层上的钝化层;对置基板包括第二衬底基板和设置在第二衬底基板上的栅极;有源层包括源极区域、漏极区域以及源极区域和漏极区域之间的沟道区,栅极与沟道区所在位置处的钝化层相对间隔设置。由此,该显示面板可用于形成曲面显示面板,并具有较高的良率和品质。

本发明至少一个实施例提供一种显示面板,其包括:阵列基板,包括第一衬底基板以及设置在所述第一衬底基板上的源极、漏极、有源层以及设置在所述源极、所述漏极和所述有源层上的钝化层;以及对置基板,与所述阵列基板相对间隔设置且包括第二衬底基板,所述有源层包括源极区域、漏极区域以及所述源极区域和所述漏极区域之间的沟道区,所述对置基板还包括设置在所述第二衬底基板上的栅极,所述栅极与所述沟道区所在位置处的所述钝化层相对间隔设置。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述显示面板被配置为弯曲以使得所述栅极与所述沟道区所在位置处的所述钝化层的间隔减小。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述对置基板还包括:保护层,设置在所述栅极靠近所述阵列基板的一侧,所述栅极所在位置处的保护层与所述沟道区所在位置处的所述钝化层相对间隔设置。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述显示面板被配置为弯曲以使得所述栅极所在位置处的所述保护层与所述沟道区所在位置处的所述钝化层接触设置。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述栅极所在位置处的所述保护层突出于所述对置基板并形成突起,所述沟道区所在位置处的所述钝化层凹向所述第一衬底基板并形成凹槽,所述突起被配置为插入所述凹槽。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述对置基板还包括:多个滤光片;以及黑矩阵,所述黑矩阵设置在各所述滤光片周边,所述栅极在所述第二衬底基板上的正投影落入所述黑矩阵在所述第二衬底基板上的正投影。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述多个滤光片呈阵列排布,所述对置基板还包括:栅线,沿所述阵列的行方向延伸,所述栅线与所述滤光片交叠。

例如,在本发明一实施例提供的显示面板中,所述对置基板还包括:隔垫物,所述隔垫物在所述第二衬底基板上的正投影落入所述黑矩阵在所述第二衬底基板上的正投影。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;合肥鑫晟光电科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201611220093.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top