[发明专利]量子点膜层结构的制作方法在审
| 申请号： | 201611221391.5 | 申请日： | 2016-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN106920865A | 公开（公告）日： | 2017-07-04 |
| 发明（设计）人： | 刘双良;左洪波;张学军 | 申请（专利权）人： | 左洪波 |
| 主分类号： | H01L33/04 | 分类号： | H01L33/04;H01L33/00;H01L33/52 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 150001 黑龙江*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 量子 点膜层 结构 制作方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于将量子点层制作于两层派瑞林功能膜层之间，包括基板清洗、烘干、沉积派瑞林层、涂量子点层、固化、沉积派瑞林层、量子点膜层结构与基板之间进行剥离、防水性检测；具体方法步骤为：
（1）将玻璃基板或PET膜进行清洗并烘干；
（2）用真空气相沉积的方法将派瑞林均匀沉积在基板表面，沉积厚度2~100µm左右；
（3）量子点阵列排布要求依次在基板上涂上量子点后进行固化；
（4）用真空气相沉积的方法再次沉积派瑞林膜层；
（5）将量子点膜层从玻璃基板或PET膜上剥离开来，成为量子点膜层成品；
（6）做膜层防水性检测。
2.根据权利要求1所述的一种量子点膜层结构的制作方法，其特征在于所述的量子点膜层为AB胶或其他相类似胶水与量子点混合的形式，精密涂覆在基板上。
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