[发明专利]溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统

说明书

本发明提供能够容易地回收从排气气氛中除去的溶剂而能够容易地进行排气路径的维护的溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统。通过使收容在外壳(62)的收容空间(63)中的叶轮(71)旋转，从而将包含气化了的溶剂(23)的气体从所述外壳的引入口(64)向所述收容空间引入，利用回收面(83)对所述气化了的溶剂进行冷却而使该溶剂液化，从而从所述气体中分离所述溶剂，该回收面(83)被冷却成表面温度为比所述气体的温度低的低温。

技术领域

本发明涉及从包含气化了的溶剂的气体中除去溶剂的溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统。

背景技术

近年来，在家电等各种工业产品的组装制造工序、或者成为这些产品的结构部件的电子部件、电池或基板等的设备制造工序中，在涂敷了具有各种功能的膏状的材料后，通过热处理装置进行加热处理。热处理装置例如是干燥炉、烧制炉、固化炉或回流炉等。回流炉在电子部件的安装工序等中用于钎焊。在膏状的材料中，除了最终产品所需的固态成分等以外，还混入有水或者有机溶剂等各种溶剂而实施粘度调整或者性能调整。

包含在膏状的材料中的溶剂在热处理装置的加热工序中，经过气化以及脱溶剂的工序而从膏状的材料释放到热处理装置内。当在热处理装置内气化了的溶剂的浓度上升时，有可能带来各种不良情况。例如，当热处理装置内的气氛的溶剂浓度接近饱和状态时，有可能使热处理对象物的干燥变得困难。因此，向热处理装置内定期或连续地供给外部气体、氮气或者其他的气氛气体，并将溶剂浓度上升了的热处理装置内的气氛向外部释放。

图10是说明相对于热处理装置1的外部气体的供给以及气氛的排气的图。送风机2向热处理装置1的内部供给外部气体。排气机3将包含气化了的溶剂的气氛的一部分向热处理装置外排出。但是，若溶剂向热处理装置外排出，则有时可能对环境产生影响。因此，作为从向热处理装置外排出的排气气氛中除去溶剂的方法已知有例如专利文献1的方式。

图11是专利文献1的说明图。在专利文献1中，相对于热处理装置1的热处理装置内排气通道4依次连接有冷却器5、热处理装置外排气通道6以及集雾器7。冷却器5通过对从热处理装置1排出的排气气氛进行冷却，从而使包含在排气气氛中的气化了的溶剂液化。包含液化了的溶剂的排气气氛经由热处理装置外排气通道6向集雾器7输送，在集雾器7中捕集并除去液化了的溶剂。由此，能够从由热处理装置1排出的排气气氛中除去溶剂。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2004-301373号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，在冷却器5中液化了的溶剂容易附着在排气路径上。在专利文献1的结构中，液化了的溶剂的一部分不仅被集雾器7捕集，而且还附着在冷却器5以及热处理装置外排气通道6等的排气路径上。当溶剂附着在排气路径上并不断蓄积时，对排气气氛净化处理的能力降低。因此，必须定期地分解排气路径而进行除去蓄积在排气路径上的溶剂的维护。

在专利文献1的结构中，由于液化了的溶剂不仅被集雾器7捕集，而且还附着并残留在冷却器5以及热处理装置外排气通道6中，因此必须分解排气路径来进行除去溶剂的维护，花费工夫。此外，由于维护花费工夫，因此需要长时间停止热处理装置1，因而降低热处理装置1的运转率。

本发明鉴于上述问题，其目的在于提供一种能够容易地回收从排气气氛中除去的溶剂、能够容易地进行排气路径的维护的溶剂分离方法、溶剂分离装置以及溶剂分离系统。

用于解决问题的手段

本发明的第一方案的溶剂分离方法从包含气化了的溶剂的气体中除去所述溶剂，所述溶剂分离方法包括：

通过使收容在外壳的收容空间中的叶轮旋转，将包含所述气化了的溶剂的气体从所述外壳的引入口向所述收容空间引入的工序；以及